DRC
PMOS的Nwell。
vi的一些快捷键编辑
:q! #退出
:wq! #退出保存
:/aa #查找特定字符段,n向下翻页。
:1,%s/aa/bb/g #替换
yy #复制光标所在行
p #复制单行到所引用的文件处。
dd #删除光标所在行
gg #开头
shift+g #结尾
shift+6 #行首
shift+4 #行尾
w #往右手
e #往左手
gf #进入光标所指引的文件。
x #删除光标行处的字符。
配置快捷键
对.cdsinit进行设置。
对package加粗。
快捷键
:/找到LOAD APPLICATION BIND KEY,对以下这段从let开始取消注释。
![在这里插入图片描述](https://img-blog.csdnimg.cn/4dda956534804c2c92b520bed58cf189.png
#pic_center)
也就是froeach可以添加快捷键。
数字版图原则
Conecttivity→Generate→all form source
vdd
vin vout
gnd
1、面积最小(节约成本)
2、单位等高
3、阱高度一致
4、尽量只用Meatal1 走线。
快捷键
层次快捷键
shift+F #显示所有层次
ctrl+f #恢复显示所有层级的层次信息。
T #查看层次。
E #设置display的x与y的最小线宽:通常为0.05um。
k #尺子。
绘图快捷键
R #画矩形,SHIFT+R,变成添加块。
Shift +C #切割
S #延伸。
M #move,移动。
C #复制。
p #栅端快捷键。
O #creat via打通孔
步骤
1、GT-poly画pass 线。
P #快捷键P,表示poly,自动吸附到GT的空间点。(黄线)
中心点,poly的线。在边界。
打一个poly的接触孔。
通孔类型
M1_GT,也就是沿着接触面的孔。GT与M1的孔。(Via1)
注:
Via2比Via1大,有一个最小间距。以Via2的M1为标准,在两个Metal里面留下0.23的距离。
可选可试。V,可看,S可选。
金属层
最小线宽的测量。