模拟电子技术——二极管、三极管与场效应管

本文介绍了半导体中的关键器件,包括二极管的伏安特性,如正向导通电压和反向饱和电流;三极管的结构、类型及电流放大作用,强调发射结正偏和集电结反偏的重要性;以及场效应管的分类,如JFET和MOSFET,重点讲解了结型场效应管的工作原理。
摘要由CSDN通过智能技术生成

半导体二极管

 一、二极管的伏安特性

        1、正向特性(二极管正偏):

                死区电压(门槛电压):二极管的正向电压大于某一特定值的时候,二极管刚好能导通

                                eg:硅二极管死区电压典型值为0.5v

                正向导通电压:二极管的正向电压大于某一特定值的时候,二极管端的电压基本不变

                                eg:硅二极管正向导通电压为0.6v~0.8v,典型取值为0.7v

        2、反向特性(二极管反偏):

                反向饱和电流:二极管加反向电压时,较大范围内的反向电压所对应的反向电流基本不变

                电击穿:反向电压增大到某一数值时,反向电流增大,会发生电击穿,电击穿不会破坏结构

                热击穿:反向电压继续增大到某一数值,反向电流进一步骤增,会发生热击穿,热击穿会破坏结构

半导体三极管(BJT管或晶体管)

一、组成——三个区、两个PN节和三个外引铝电极

        1、三个区

        (1)发射区:为了有足够的电子发射,所以在发射区高浓度参杂

        (1)基区:相当于从发射区射出电子到集电区的过渡地带,为了减少基区复合发射区射出的电子并减少基极电流,则需要把基区参杂浓度降低并制作的很薄

        (1)集电区:集电区就像的蓄水池,这个蓄水池要收集大量由发射区射来的电子,以形成较大集电极电流,则需把集电区面积做的很大且参杂浓度介于发射区和基区之间

        2、两个PN结

        (1)发射结:基极和发射结之间的PN结

        (2)集电结:基极和集电结之间的PN结

        3、三个外引铝电极:由三个区分别向外各引出一个铝电极

        (1)发射极

        (2)基极

        (3)集电极

二、类型——NPN型和PNP型

        发射区和集电区类型相同。

        发射极箭头方向表示发射结正偏时的电流方向,同时也表示P型指向N型。

三、电流放大作用

         1、具有电流放大作用的外部条件

        (1)三极管特定的结构特点

        (2)发射结正偏

        (3)集电结反偏

        请看大佬文章:

(4条消息) 放大电路为什么要保证“发射结正偏,集电结反偏”?集电极和发射极电流等比例变化(放大)的本质原因是什么?_发射结正向偏置,集电结反向偏置_今年什么都要有的博客-CSDN博客

场效应管(Field Effect Transistor,FET)

一、分类

        1、按结构分类

        (1)结型场效应管(JunctionFET,JFET)

        (2)绝缘栅型场效应管即金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET)

        2、按参与导电的载流子分类

        (1)N沟道器件——载流子为电子

        (2)P沟道器件——载流子为空穴

        3、按工作方式分类

        (1)增强型

        (2)耗尽型

二、结型场效应管

        结型场效应管有N沟道管和P沟道管,他们的导电沟道不同,但是原理类似,下面均以N沟道场效应管为例进行总结。

        1、结构

        2、工作原理简述

         

        (1)栅源电压Ugs对导电沟道的控制作用

                a、

        (2)漏源电压Uds对导电沟道的控制作用

        (3)Ugs-Uds共同对导电沟道的控制作用

        

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