在半导体CP段的Wafer Map软件中,Special Rule(特殊规则)建模是实现复杂测试和质量控制逻辑的关键部分。这些规则需要能够适应多变的测试标准和客户需求。以下是一些常见的Special Rule建模业务及其在软件设计中的实现方法:
1. **CPTest程序名比对**:
- 用于确保测试程序与设计规范一致。软件需要能够记录和比对实际执行的测试程序与预期的程序名。
- 实现一个比对机制,当测试程序名与Wafer Map中记录的程序名不匹配时,触发警告或错误。
2. **多片连续良率卡控**:
- 用于检测连续几片Wafer的良率是否低于某个阈值,以识别可能的工艺问题。
- 设计统计工具,能够追踪和分析连续N片Wafer的良率趋势。
- 实现报警系统,当连续N片Wafer的良率低于预设阈值时,自动通知相关人员。
3. **单片Wafer良率卡控**:
- 用于监控单片Wafer的良率是否达到质量标准。
- 在Wafer Map中为每片Wafer设定良率目标,并在测试结束后自动计算实际良率。
- 如果实际良率未达标,软件应提供原因分析工具,帮助工程师快速定位问题。
4. **DUT(Device Under Test,被测设备)良率卡控**:
- 针对单个芯片的良率控制,确保每个芯片都通过了必要的测试。
- 为每个DUT设定测试参数和合格标准,软件自动判断每个DUT是否合格。
5. **参数范围卡控**:
- 对于电学参数,如电压、电流、频率等,设定参数的上下限,超出范围的DUT将被标记为不合格。
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