数字后端基本概念介绍<Spare cell>

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今天要介绍的数字后端基本概念是Spare cell. 像它的名字一样,spare cell就是备用的cell。 简单来说,就是每块地方洒一些类似SDFF,NAND,AND,XOR,INV等的备用cell, 为以后做function eco和metal eco用。

流片过程是先光刻base层和M1层的片子,这个是最贵的,这个需要一两个星期。这段时间,要是验证过程中发现了func和metal error,就改变M2以及以上金属层的连线,连接备用cell去修。代工厂再给你做M2以及以上金属层的片子。这样就可以不需要修改place,只改指定metal的routing就可以了。

一般Foundry会提供一种服务,允许客户在量产工艺加工进行到某个阶段的时候,让部分wafer暂时停止,而部分wafer继续加工。这样的话,客户可以在加工到poly层时(后面的金属层还没有做),停止大部分wafer的进程,而让少量wafer继续加工到完成,然后对这些已完成的wafer上的die进行测试,如果发现有功能或时序上的问题,就可能通过预先布在die上的 Spare cell来解决。只是改动几层金属层光罩就可以完成standard cell重新连接,而不用改动standard cell的布局(要改poly层之前的所有光罩)。那些暂停加工的wafer这时就可以用新的金属层光罩往后加工,于是在silicon和光罩两方面都降低了成本。

有时为了验证重连金属是否真的能解决问题,会在前面提到的先一步加工完的有问题die上进行FIB(Focus Iron Beam)操作,能够在不影响其它金属布线的前提下,打断有问题的金属连接,建立金属连接到合适的spare cell上,然后在测试die,如果再没有其它问题的话,就说明之前的金属重连接方案是可行的,这时再重新做金属层光罩就会更有把握些。

然而,要能进行FIB就必须在tapeout前对spare cell的金属连线方式做特殊处理。一般我们都把spare cell的输入输出端逻辑上接VSS,这样在后端工具自动布线时就会将spare cell的输入输出pin接到临近的VSS rail上,而rail是metal 1,对于FIB而言,这个连接太深了。为方便更改连接,还是应该让从spare cell输入输出pin引出的金属线连接到顶层金属层上。

使用方法

add_spare_cells

add_spare_cells -cell_name spare1 -lib_cell {AND2 OR2} -num_instances 250


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