pin的层级要注意!看工艺库要求。
GT层的直接生成连接
生成了两个金属通孔
如果尺寸太小,不能连接到,则绕一绕在连接
删除的两种方法
1、选中,按住shift+c,用框框删掉目标
2、左键选中目标的边,然后按住X,则可以上下拉动
选中这两个,就可以提示你画图时候的DRC错误
PEX提取寄生参数
1、打开PEX
2、导入.rxc(.xrc?)文件
3、导入xcell文件
4. 选择要提取的寄生参数
5、run pex(还要导入,cellmap文件)
6、查看参数
1.刚进来是这样子,放大红色圈
2. 查看PIN口被提取出来没
7、给INV建立symble,做测试(前仿真)
8、进行tran仿真
9、后仿真(两种方式)
1、方法一:先建立config文件
现在就可以进行后仿真了。但是这种方法容易在两个仿真器里面反复横跳,也没这么直观。
2、在XL仿真器里面仿真
三个按钮的介绍:job setup、environment、
job setup
environment
都只有一个空格, 点一下apply和ok
选择Append,更清晰查看前后仿真差距
结果:前后仿真的差距

红色线是前仿真,上升速度快;黄色线是后仿真,上升速度慢一点(因为寄生电容考虑了,总体的电容增加了)
3、方法二:方便一点
上面这一步,可以加入多个calibre(只有R、只有C、R和C都有)快速很多
仿真图:
从后仿真环境变回前仿真的小技巧
检查是否真的返回前仿真
发现网表特别简单
对比一下