版图提取寄生参数以及后仿真

pin的层级要注意!看工艺库要求。

GT层的直接生成连接

生成了两个金属通孔

如果尺寸太小,不能连接到,则绕一绕在连接

删除的两种方法

1、选中,按住shift+c,用框框删掉目标

2、左键选中目标的边,然后按住X,则可以上下拉动

选中这两个,就可以提示你画图时候的DRC错误

PEX提取寄生参数

1、打开PEX

2、导入.rxc(.xrc?)文件 

3、导入xcell文件

4. 选择要提取的寄生参数

 

5、run pex(还要导入,cellmap文件)

 

6、查看参数

1.刚进来是这样子,放大红色圈

2. 查看PIN口被提取出来没 

7、给INV建立symble,做测试(前仿真)

 

8、进行tran仿真

 

9、后仿真(两种方式) 

1、方法一:先建立config文件

现在就可以进行后仿真了。但是这种方法容易在两个仿真器里面反复横跳,也没这么直观。

2、在XL仿真器里面仿真

三个按钮的介绍:job setup、environment、
job setup

environment

都只有一个空格, 点一下apply和ok

选择Append,更清晰查看前后仿真差距

 结果:前后仿真的差距

红色线是前仿真,上升速度快;黄色线是后仿真,上升速度慢一点(因为寄生电容考虑了,总体的电容增加了)

3、方法二:方便一点

上面这一步,可以加入多个calibre(只有R、只有C、R和C都有)快速很多

仿真图:

从后仿真环境变回前仿真的小技巧

检查是否真的返回前仿真

发现网表特别简单

对比一下

在进行运算放大器设计的集成电路仿真后,确保设计符合预期的关键步骤是进行版图验证和寄生参数提取。首先,你需要确保已经正确安装并配置好Cadence和Calibre软件环境。以下是一个简洁的步骤概要,以及需要关注的技术细节。 参考资源链接:[Cadence中Spectre模拟仿真的步骤与结果处理](https://wenku.csdn.net/doc/1eeucooup7?spm=1055.2569.3001.10343) 首先,完成运算放大器的电路设计与仿真后,在Cadence中进行版图设计。版图设计通常涉及到绘制晶体管的物理布局,包括确定元件的位置和布线。 完成版图设计后,使用Calibre工具进行版图验证。版图验证是一个确保版图设计与电路设计一致性的重要步骤。这通常包括DRC(Design Rule Check)和LVS(Layout Versus Schematic)检查,以确保没有违反工艺设计规则和版图与电路图之间存在差异。 DRC是检查布局是否符合特定制造工艺要求的过程,而LVS则是确保布局图形与原始电路图在逻辑上是一致的过程。这两项检查是必要的,因为任何设计错误都可能导致电路失效或性能下降。 接下来,进行寄生参数提取寄生参数提取是从版图数据中提取出来表示版图中元件和互连寄生效应的参数。这些参数对于后续的后仿真至关重要,因为它们直接影响电路的性能。在Calibre工具中,使用相应的命令进行寄生参数提取,并将提取结果反馈给Spectre仿真器,以进行更精确的后仿真。 最后,分析提取出来的寄生参数,并结合后仿真的结果,对电路性能进行评估和优化。这一步骤可能需要多次迭代,以确保电路满足所有的性能规格。 在整个流程中,熟悉Cadence和Calibre工具的命令、选项和参数设置是关键,同时了解不同工艺库对设计流程的影响也是非常必要的。为了深入掌握这些工具的使用,我推荐查阅《Cadence中Spectre模拟仿真的步骤与结果处理》一文。该文章详细介绍了Cadence中Spectre仿真的操作步骤,以及如何处理和查看模拟结果,对于理解上述过程将提供极大的帮助。 参考资源链接:[Cadence中Spectre模拟仿真的步骤与结果处理](https://wenku.csdn.net/doc/1eeucooup7?spm=1055.2569.3001.10343)
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