在场景视图中可视化GI

原文链接：在场景视图中显示GI

场景视图有几种模式用来显示场景中的不同内容。其中有一系列模式可以用来查看GI如何影响场景。
默认的Shaded模式根据当前的光照设置显示完全光照的场景。其他与GI相关的模式包括UV Charts, Systems, Albedo, Emissive, Irradiance, Directionality, Baked, Clustering和Lit Clustering，接下来分别介绍每个模式。注意在光照窗口的Object标签，可以将选中物体的UV通道渲染成线框网格的纹理，来显示该物体的一些不同模式。选中下拉菜单中的“Show Lightmap Resolution”，可以在每个视图的顶端用缩放的棋盘纹理显示可应用的分辨率。

Shaded

UV Charts

用来显示计算预处理实时GI时使用的优化后UI布局。在预处理过程中自动生成。预处理阶段完成后立即就可用。UV Charts场景视图模式可以用来判断需要调整UV或缩放的几何体（使用光照贴图参数中的分辨率参数来改变缩放比例）。这个视图也可以用来调整实时分辨率。每个chart颜色不一样。

Systems

预处理阶段会根据近似和光照贴图参数自动将场景划分成不同systems（比如共享相同实时光照贴图的物体集合）。完成后可以在更新间接光照时进行多线程处理和优化。

Albedo

用来显示计算GI时使用的反射率。反射率使用材质信息生成，可以增加一个自定义meta pass进行完全的定制。方格网状的叠加层显示了传递到Enlighten的反射率纹理的分辨率。

Emissive

用来显示计算GI时使用的材质发光。使用材质信息生成，可以增加一个自定义meta pass进行完全的定制。方格网状的叠加层显示了传递到Enlighten的发光纹理的分辨率。

Irradiance

这个模式仅显示间接光照（Enlighten生成的实时GI光照贴图内容）。方格网状的叠加层显示了辐照纹理的分辨率。如果禁用了实时GI，这个视图模式将不能使用。

Directionality

这个视图显示了主导光的方向矢量。更多信息请参考Directional Lightmapping。方格网状的叠加层显示了方向纹理的分辨率。

Baked

这个模式显示应用到场景几何体的烘焙光照贴图。方格网状叠加层显示了烘焙光照贴图的分辨率。

Clustering

这个模式显示Engliten用静态几何体光照贴图生成的clusters。Enlighten使用在Clustering步骤生成的clusters计算间接光照。生成的clusters应该比光照贴图的纹理点更大（这个比率由光照贴图参数中的Cluster Resolution参数控制）。如果比例设置不正确，将几何体转换为clusters的步骤可能非常消耗内存。如果你发现内存占用很高或者烘焙时间很长，可能是因为场景中的静态几何体被分割成太多的clusters，超过了实际需要。Clustering场景视图模式可以用来判断需要调整UV或者实时分辨率的几何体。

Lit Clustering

这里显示的是和Clustering视图中一样的clusters，但是应用了实时GI。

Shadowmasks

这个模式显示shadowmask纹理遮挡数值。这个视图将网格和光照gizmo应用相同的颜色，以验证光照遮挡按照期望进行烘焙。

Shadowmask Overlap

这个模式用来检查是否所有的静态光照都烘焙到了shadowmask中。如果一个级别的区域被超过四个静态光照照射，超过的光照会显示为红色，退化为完全烘焙的光照。这个计算不是使用的实际的照明表面，而是光源照明区块的相交。因此即使下面的截图看起来格网上的红色spot光照没有重叠，但是四个spotlight照明的锥体和定向光照一起在地平面下重叠了。

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• 在5.6中更新
• 2017-06-19发布，没有编辑审查