半导体常见口语集合

一、常用口语及解释

  1. Care:表示小心、注意或关心,如 “你 care 下这个参数设置” 意为 “你要注意这个参数设置”,“我不 care” 表示 “我不关心这些”。

  2. Check:意为检查,例如 “你去 check 一下机台情况”。

  3. Fix:有修理、解决问题的意思,像 “你去把光刻机 fix 一下”。

  4. Run:可表示运行、执行或跑,如 “你去 run 这个 recipe”“你去把这些 wafer run 一下”。

  5. Set:用于设置,如 “你 set 一下温度”。

  6. Show:展示、显示,如 “你 show 一下测试数据”。

  7. Push:推、加速,比如 “麻烦 push 下 Tom,让他赶紧提交会议 ppt”。

  8. Hold:暂停,如 “Hold 住这个工序,让工程师检查一下”。

  9. Down:表示坏掉了,如 “光刻机 down 掉了”。

  10. Fail:失败,例如 “这个测试 fail 了”。

  11. Call:打电话,如 “所有工程师 24 小时 on call”。

  12. Follow:跟进,像 “这个问题由你来 follow”。

  13. Update:更新,如 “给我 update 一下最新情况”。

  14. Join:参加,例如 “这个会你 join 一下”。

  15. Issue:问题、故障,如 “这个工艺 issue 怎么解决?”

  16. Solution:解决方案,像 “告诉我你的 solution”。

  17. Support:支持、帮助,例如 “我需要你这边的 support”。

  18. Feedback:反馈,如 “请给我一些 feedback”。

二、相关术语及解释

  1. Machine:机器、设备,如 “这个 machine Down 掉了”。

  2. Recipe:工艺菜单,如 “你可以设置下这个 recipe”。

  3. Parameter:参数,例如 “检查下这个 parameter”。

  4. Spec:规格、标准,如 “刻蚀结果超出 Spec 了”。

  5. Deadline:最后期限,如 “这个项目的 deadline 是什么时候?”

  6. Release:释放,如 “把这个工序 release 出来”。

  7. Priority:优先级,如 “排个 priority 给我”。

  8. Module:指生产流程中的某个工序或代指部门,如光刻、CMP、PVD、CVD 等。

  9. Key lot:生产过程中非常重要的晶圆批次,需要特别关注。

  10. Standby:处于待命状态,如 “希望你们能 standby handle 一下”。

  11. Handle:处理、解决,像 “standby handle 一下”。

  12. Track PM:track 是涂胶 / 显影机,PM 指机台维护。

  13. Monitor:设备运行的监控,确保设备可以正常工作,如 “注意一下设备的 pm monitor 结果”。

  14. Pi run:pilot run,小批量生产,如 “pi run 一批 lot 去 etch 看 inline cd”。

  15. Inline cd:在线测量的 CD 值,CD 指特征尺寸。

  16. For defect case p:因为制程出现缺陷问题,进行机台 PM。

  17. Mon p data:PM 后的监控数据。

  18. Backup:备用机台,如 “backup 机台挑一台 offline 好的给他 run”。

  19. Offline:离线的。

  20. Sense:敏感度、反应速度,如 “你的 sense 不够”。

  21. Mindset:工作态度、思维方式,如 “把 mindset 捡起来”。

  22. Escalate:将无法解决的问题上报给上级或相关部门,如 “你要不要 escalate 到你 section (depart) 那”。

  23. Involve:参与、介入,像 “让他们 involve 进来”。

  24. Root cause:根本原因,如 “找到 root cause”。

  25. Take action:做出改善、有所动作,如 “take action,才能明确 solution”。

  26. Salary:职责、职业,如 “我的 salary 不 cover 这些 load”。

  27. Cover:负责、涉及、包含,像 “我的 salary 不 cover 这些 load”。

  28. Load:工作量,如 “我的 salary 不 cover 这些 load”。

  29. Testkey:晶圆加工中为了监测工艺而加入在晶圆固定位置的测试单元。

  30. Frame:光罩的边框范围。

  31. Metal:金属层。

  32. Dummy:此处指测试的结构。

  33. Space:间距。

  34. TD:研发。

  35. Waive:接受、豁免、放。

  36. Lota:Lot Acceptance,将设计交付给光罩制造前,对设计数据进行的一系列检查和验证。

  37. Baseline:BSL,基准、标准。

  38. Rule:设计规则。

  39. Comment:结论、指令。

  40. Owner:项目的拥有者。

  41. MPW(Multi-Project Wafer):多项目晶圆,将多个设计项目集成在一块晶圆上制造。

  42. Process Flow:工艺流程,指整个制造过程中各工艺步骤的顺序。

  43. TO(Tape Out):设计完成后提交光罩制造,准备流片。

  44. Vendor:供应商。

  45. YE(Yield Engineer):良率提升工程师。

  46. PHOTO:光刻部门。

  47. Out Spec:超出规格,某个工艺参数或质量参数不符合规定标准。

  48. Cassette:用于存放晶圆的盒子。

  49. Lot/Batch:一般一盒晶圆为一个 lot,多个 lot 为一个 batch,即一个生产批次。

  50. Load/Unload:装载 / 卸载晶圆,放入或取出设备中。

  51. Edge Die:位于晶圆边缘的芯片。

  52. Wafer Flat/Notch:晶圆边缘的平边或缺口。

  53. CP(Chip Probing):对晶圆上的芯片进行电性测试。

  54. FT(Final Test):最终测试,芯片封装后进行的测试。

  55. Datasheet:数据表,包含芯片规格和性能参数的详细信息。

  56. Size:尺寸大小。

  57. Ship:晶圆制程结束后出货给客户。

  58. Oven:晶圆烘烤。

  59. Bake:烘烤,用于固化光刻胶。

  60. Pump:真空泵,指设备中的真空系统,用于去除腔体内的气体。

  61. Pattern:晶圆上形成的芯片图形。

  62. Residue:残留物,如光刻胶残留叫做 photoresist residue。

  63. Rate:速率,指某个工艺过程的速度,如沉积速率、刻蚀速率等。

  64. Stress:应力。

  65. ESD(Electrostatic Discharge):静电放电。

  66. Adhesive:粘合剂。

  67. Due Day:截止日期。

  68. Report:报告。

  69. Chart:图表。

  70. Check Out:检查,确认某项工作或设备状态。

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