高效光伏硅片制造中的水基超声化学清洗

引言

近年来，太阳能电池和电池板等可再生能源的使用量显著增加。在已安装的光伏系统中，90%以上的是单晶硅电池和多晶硅电池，具有成本低、面积大、效率较高的优点。清洁硅晶片的表面是器件处理技术中最关键的操作之一，特别是在光伏工业中。污染物的完全去除和表面可充电态的钝化是提高对表面重组速度敏感的硅太阳能电池的能量转换效率的非常重要的问题。关键是需要更多的能量来去除更小的粒子，因为在物理上传递微小尺寸的必要的力更困难。

在这种情况下，在其他技术中，超声波搅拌被广泛用于向湿清洗浴中添加能量。平面和图案硅片通常用超声波清洗。在这个过程中，晶片浸在高功率声波的化学活性溶液中。超声化学清洗已被证明是特别有效的，例如，预氧化后、化学前气相沉积、前外延生长、灰后和化学后硅晶片机械抛光。

实验

太阳级n型和p型硅晶片、晶晶和多晶在蒸馏水清洗浴中进行超声。设置如图1所示，施加于朗之万传感器的振幅为U0的振荡电压导致其振动，用硅片将声功率传递到充满水的烧瓶中。传感器-水的共振频率（28kHz）由水的高度h定义。在整个处理过程中，散装水的温度保持在70~80°C之间。在图1中所示的几何图形中，在U0≥45V时很容易观察到空化。

图1 对晶圆超声