书籍:《炬丰科技-半导体工艺》 文章:光刻在掩模中转移几何形状图案的过程 编号:JFKJ-21-198 作者:炬丰科技 光刻是在掩模中转移几何形状图案的过程,是覆盖在表面的一层薄薄的辐射敏感材料(称为抗辐射剂) ,也是一种