先进工艺下的SRAM

文章探讨了SRAM在先进工艺下的挑战,包括功耗与性能问题,以及新兴技术如3DV-Cache和CUBE堆栈如何改变内存架构。文章指出,SRAM可能不会被完全取代,但未来将面临架构和操作系统软件的革新。

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虽然SRAM目前仍将是主力存储器,但在先进工艺下使用SRAM有了新的挑战。

尽管SRAM的设计年代久远,但它已成为AI的主力存储器。但SRAM无法进一步缩放对功耗和性能目标提出了挑战,迫使系统从硬件创新到重新思考系统整体的布局。 

SRAM及其稍年轻的表亲DRAM之间需要权衡取舍。SRAM通常配置为六个晶体管,这使得其访问时间比DRAM更快,但代价是读取和写入会消耗更多的功耗。相比之下,DRAM采用单晶体管/单电容设计,成本更低。但DRAM会影响性能,因为电容器由于电荷泄漏而需要刷新,有时在内存升温时会自刷新。因此,自推出以来的60多年里,SRAM一直是优先考虑低延迟可靠性应用的首选存储器。

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SRAM对于人工智能至关重要,尤其是嵌入式SRAM。它是性能最高的存储器,你可以将其直接与高密度逻辑集成。

功耗和性能挑战
但是,在跟上CMOS工艺缩放的步伐方面,SRAM却表现平平,这对功耗和性能产生了影响。在传统的工艺缩放中,栅极长度和栅极氧化物厚度一起缩小,以提高性能和对短沟道效应的控制。更稀的氧化物可以在较低的VDD水平下实现性能提升,这对SRAM在减少泄漏和动态功耗方面都是有利的。然而,在最近的工艺节点迁移中,我们几乎没有看到氧化物或VDD水平的进一步缩放。此外,晶体管的几何收缩导致金属互连

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