GraphicsLab Project之光照贴图烘焙(二) - Radiosity Normal Mapping

作者：i_dovelemon
日期：2018-05-30
来源：CSDN
主题：Radiosity Normal Mapping, Tangent Space

引言

前面一篇文章，我们讲述了如何通过Radiosity算法，实现旧式的光照贴图烘焙。正如前面我们讲述的，最终我们希望实现的是Source引擎中带有凹凸效果的烘焙（题图对比）。

我们知道，Normal Mapping是一种增添表面细节的方法。旧式的光照贴图丢失了这种细节。原因是普通的Normal Mapping，需要光照方向，但是对于烘焙的贴图来说没有固定的光照方向，所以丢失了凹凸的信息。为此，Valve在Half Life 2中提出了Radiosity Normal Mapping的改进方法，以此来增加烘焙贴图的表面细节。

Radiosity Normal Mapping

在传统的光照贴图烘焙中，我们保存的是每一个patch的法线所朝向的半个立方体范围内的入射光照的结果。Valve将此种方法进行了扩展，他们实验出了一组正交基，如图所示：

与旧式不同的是，需要计算以这三个切空间正交基为法线的patch的颜色。也就是说，相对于以前只保存一个颜色的光照贴图，现在需要保存这三个法线方向的光照颜色。

当我们获取了这样的光照贴图之后，在实际使用的时候，只要简单的获取对应的法线贴图中的法线数据与三个基向量做点积，并以此为权重进行光照贴图的混合，如图所示：




整个过程并没有多复杂，通过这样的方式就能够近似的模拟带有Normal Maping的效果了。

实现

实现中也没有什么特别的地方，只要注意Valve给出的向量实际是patch法线所在的切空间，所以我们在进行光照贴图计算的时候，需要将这三个正交基变换到世界坐标来，如下代码所示：

void PrepareLightPatch() {
    memset(m_Patch, 0, sizeof(m_Patch));

    // Calculate uv for every patch
    for (int32_t h = 0; h < kLightMapHeight; h++) {
        for (int32_t w = 0; w < kLightMapWidth; w++) {
            m_Patch[h][w].uv = math::Vector((w + 0.5f) * 1.0f / kLightMapWidth, (kLightMapHeight - h - 0.5f) * 1.0f / kLightMapHeight, 0.0f);
        }
    }

    // Collect all faces
    struct Face {
        struct {
            math::Vector uv;
            math::Vector pos;
            math::Vector normal;
            math::Vector tangent;
            math::Vector binormal;
        } vertex[3];
    };
    std::vector<Face> faces;
    faces.clear();

    scene::ModelEffectParam effectParam;
    scene::ModelMaterialParam materialParam;
    float* vertexBuf = NULL;