芯片简史—— 4 台积电与ASML的相爱相生

上个世纪八十年代，当代芯片产业至关重要的两家公司开始悄悄发育。一家是当今最大的半导体代工厂，另一家是当今最先进的光刻机生产厂商。今天我们讲讲这两家公司是如何从为梦想窒息到让梦想起飞的。

半导体的两颗

1 全新的商业模式——台积电横空出世

台积电（TSMC）的故事还要从前文提到过一个老哥张忠谋的说起（对，就是那个在德州仪器提升芯片良率的人）。

年轻时的张忠谋，眼神还是狠

1987年，这个时候台湾省急需搞点科技提振一下经济，老哥在美帝混的也没有那么好吧，始终当不了一把手。最终老哥决定，自己博一把，单车变摩托，不能总给别人打工，出来自己创业了。

张忠谋有一个观察，集成电路制程变得越来越小，必然成本越来越高，各家芯片厂商自建产线成本会变得越来越大。但是把自己的芯片丢给有能力建产线的厂商生产又怕设计被剽窃了。大家都比较头疼。最终大家为了保密还是各自为战。

台积电的商业模式就此诞生：专心代工，不做设计。从后来的发展来看，他无疑是选中了正确的那条路。这样的商业模式，一来可以吸引大量不同厂商的订单，摊薄制造成本，二来，由于不做设计，也让合作伙伴没有后顾之忧。

靠着张忠谋在美国的人脉，台积电在美国的订单慢慢变多，可以生存下来了。实际上，一方面美国的订单和技术给了台积电最初的支持，另一方面，台积电的诞生也让美国产生了好多没钱建产线但又好想法的fabless公司，让美国在芯片设计领域遥遥领先世界。

当今，台积电是全球最大的半导体代工厂。

2020年的台积电市场份额

2 台积电的一场大火, 点起了ASML的第一把火

就在台积电成立的三年前，另一家公司在荷兰诞生。这家叫阿斯麦（ASML）的公司成立了。脱胎于飞利浦，想搞搞欧洲的光刻机。当然，此时的ASML只能说是苟活。此时光刻机市场的霸主还是日本的尼康，佳能以及美国的GCA。

直到，台积电成立。由于飞利浦技术入股，占了台积电27%左右的股份，所以当台积电要买光刻机的时候，自然首先就找到了飞利浦的ASML。

到了1988年，这个时候ASML已经饿得前胸贴后背了。这个时候您猜怎么着。台积电的厂房它着火了。所以台积电又一次性的向ASML买了19台光刻机。靠着这笔光刻机，ASML终于还是苟了下来。

从此，台积电和ASML就向着芯片绝代双骄的目标一路狂奔。

3 台积电的产能释放，点起了ASML的第二把火

日子就这么一天天的过。台积电和ASML都在各自的邻域开始小有名气。转眼到了二十一世初。台积电的的商业模式取得了空前的成功。在台积电之前，大家对流片的速度其实要求没那么高，反正够自家卖就好，Intel的生产线甚至晚上下班，关灯走人了。而台积电订单量大，对光刻机的效率要求就非常高。

这个时候ASML正好有想了一个办法。。叫TWINSCAN技术。其实就是传说中的，流水线。光刻的图案曝光到硅片的时候硅片显然要对准，对准了再曝光。对准和曝光都需要时间的。所以ASML搞了两个晶圆，一个晶圆在曝光的时候，另一个对准，对准好了以后换到曝光台曝光。再对准下一个晶圆。

ASML的TWINSCAN技术

思路非常简单，然鹅，就是ASML首先搞出来了。2001年，首台采用TWINSCAN技术的光刻机就早出来了。

ASML的光刻机示意图

4 台积电一老哥，又点起了ASML的第三把火

时间又过了几年，此时的光刻机厂商们开始纷纷卷光源波长，因为波长越短，刻蚀精度越高。台积电一个老哥叫林本坚的人, 想了个招。波长要往下降，干脆把光泡水里。由于水的折射率是1.44，光的波长就能除以1.44。其实光浸水后波长变短这事儿，属于物理学的基本原理，谈不上谁发明了它。是不是林本坚搞的还有争议，但是能想到把它用到工程领域还是挺强的。

浸润原理：折射率的使用

这个时候尼康搞出的157nm光源测试效果不佳，ASML 用193nm光源通过折射变成了193nm/1.44=134nm, 彻底干翻了尼康。到2006年Intel开始使用ASML的光刻机，到2009年ASML已经占了7成市场。

193nm的光源在不同折射率里的波长

4 美国直接给ASML倒了一桶汽油，点起了ASML的第四把火

ASML最后一次技术飞跃，还得看老美黝黑的黑科技。。。

早在1997年，intel和美国能源部牵头组了一个局，EUV LLC，专门来研究EUV的黑科技。由于此处美帝在半导体刚吃过日本一轮亏，不想带着日本玩，而荷兰远在天边，看着也不会抢占美国市场，再加上ASML给了美帝一些好处，于是美帝把ASML也拉进了群。

EUV怎么个黑科技法呢？intel的想法是人造一种X光，波长尽量往短造。这种东西自然界是没有的，只能人工来造。

常用的波长范围

不同工艺结点使用的光源

但是这么做有个问题。波长太短，损耗就很大。大到连空气都穿不透，只能在真空中传播。所以还得把光刻机内部抽成真空。同时，再像以前那样让光穿过透镜聚焦那是痴心妄想。所以EUV只能通过不断的反射来成像。最终他们搞出来的反射镜片误差在0.01nm以下。贼精准（看下图中的紫色部分）。

ASML光刻机内部示意图

等理论验证完成后，EUV LLC就解散了，等着ASML造出真家伙来用。ASML也是不负众望，2010年，第一台工程样机横空出世，人类来到了EUV的时代。

2018年，正式商用的NXE 3300开始发货。一台上亿美元，全球仅此一家，别无分号。

5 总结

一句话总结，台积电用全新的商业模式变成了世界最大的代工厂，ASML通过四次机遇，变成了世界最牛的光刻机厂商。所谓自主可控，能把ASML这一套光刻机的东西玩的溜才算真正的自主可控。另外，从ASML的成长史来说，技术路线是很关键的，一旦走偏了路，可能一步慢，就再也跟不上了；运气也是很关键的，即使有实力，如果台积电工厂不着火，可能ASML早就凉了。所以，实力与运气缺一不可。

基本写到这儿，芯片已经从晶体管讲到了现代化的光刻机。从应用层面，巨头们各个时期都在玩什么？我们下回分解。