背景: 前面两篇介绍了MOSFET模型导入到TINA软件,介绍了SPICE仿真不收敛的解决方法,把平台搭起来了。这次进行电路的性能优化,探索下驱动的隔离电阻和VDS过冲的关系。并且介绍下隔离电阻和开关损耗的关系。
一个故事: 在一次研讨会上,有个工程师提出个问题,我能不能不关心管子的这些参数,拿来直接用。英飞凌专家的回答是,目前这些大功率的管子已经是在工艺上做到了极限,不可能在各个方面都满足各类客户的要求,需要工程师去调节外围的参数,例如驱动电阻大小,来满足客户自身产品的需求。
后来我想想专家的话,确实。现在功率管的发展水平,还远远没达到“理想器件”模型,即使是运算放大器芯片也没达到,需要我们工程师们去设计,去权衡利弊,最终交付有竞争力的产品。而这项工作也是体现我们工程师技术水平和为社会做贡献的机会!
过冲改善措施: 1.增加G极的隔离电阻 2.增加RC吸收电路
仿真过程:
下图中间为VDS的电压波形,没有隔离电阻和吸收电路,有较大电压过冲
下图是MOSFET G级增加30R隔离电阻,过程明显改善
隔离电阻加上RC吸收电路,通过和上图对比,RC对过冲的改善,远没有隔离电阻明显。
导通过程中,产生损耗的波形示意图。理解损耗,大家可以这么想:如果电压为不为0时,电流为0,MOSFET就没有损耗了……
下图是驱动电阻为0R,时间和电压的细节图,导通时间明显减小,导通速度加快,但是过冲也明显增加。
小结:
驱动电阻是串联在驱动芯片和MOSFET直接的电阻,其作用是调整MOSFET的导通或者关断时间。
如果驱动电阻太大,开通或者关断的过程就很耗时,例如100 ns 到500 ns之间,这个电压变化的过程,同样会有电流的叠加变化,就会产生较大的开关损耗,这不是我们想看到的。
如果驱动电阻太小,开通或者关断过程就会很短,ns量级都是有可能的,但是过快的电压变化,又会产生电压波形的过程,同样也不是我们想要的。
所以我们要根据实际工况,例如MOSFET工作电压、工作电流、负载和损耗等,选定合适的驱动电阻,在开关损耗和电压过冲之间取一个平衡。
后续:
过冲改善好了,后面该计算损耗了^^