Unity 光照

光照烘培

光照模式切换为 Baked 或 Mixed，Baked 模式完全使用光照贴图模拟光照，运行时修改光照颜色不生效，Mixed 模式也使用光照贴图，并且进行一些实时运算，运行时修改光照颜色会生效

受光照影响的物体勾选 Contribute GI，或者直接勾选 Static

打开Lighting窗口，创建配置文件

Scene页签中包含很多设置项，数值型的参数一般越大越好，但也会增大烘培时间和占用空间

Realtime Global Illumination	实时全局照明
Realtime Environment Lighting	实时环境照明，实时更新环境光
Indirect Resolution	间接分辨率，指定实时光照贴图使用的每单位像素数。增加该值可以提高光贴图质量，但也会增加渲染时间
Baked Global Illumination	烘焙全局照明，勾选后场景中 Baked 模式的灯光使用光照贴图，而 Mixed 模式的灯光则根据 Lighting Mode 设置进行。禁用后 Unity 会强制场景中的所有 Baked 和 Mixed 灯光像实时灯光一样运行
Lighting Mode	Baked Indirect 间接烘培，Mixed 灯光提供实时直接光照，间接光照烘焙到光贴图和光照探针中，实时阴影贴图提供阴影
	Shadowmask 阴影遮罩，Mixed 灯光提供实时直接光照，同时将间接光照烘焙到光贴图和光照探针中。该模式结合了实时和烘焙阴影
	Subtractive Mixed 灯光为静态物体提供烘焙的直接和间接光照。动态物体可获得实时直接光照，并使用平行光光投射阴影
Lightmapper	选择 CPU 或 GPU 烘培光照贴图
Progressive Updates	渐进更新，启用后将更改先应用于场景视图中可见的像素，然后应用到视图外的像素
Multiple Importance Sampling	多重重要度采样，启用会使用多重重要度采样对环境进行采样。在生成光图时，这通常会加快收敛速度，但在某些低频环境中可能会导致更多噪音
Direct Samples	从每个像素拍摄的采样的数量，用于直接光照计算
Indirect Samples	从每个像素拍摄的采样的数量，用于间接光照计算
Environment Samples	向天空盒发射的环境采样光线总数，Unity 会从光线贴图像素或光线探针位置发射这些光线
Light Probe Sample Multiplier	控制光探针使用的样本数量
Max Bounces	间接光照计算中包含的最大反弹次数
Filtering	对光照贴图进行后期处理的方式，以限制噪点。在光照贴图后处理中，光照贴图被分为直接、间接和环境光遮蔽，Unity 会分别对这些目标进行后处理，然后将它们合成为一个光照贴图。直接：从光线直接到达传感器（通常是相机）的任何光线。间接： 从光线间接到达传感器的光线。环境光遮蔽： 照明系统计算的任何环境光
Lightmap Resolution	光照贴图使用的每单位像素数
Lightmap Padding	烘焙光照贴图中不同形状之间的间隔
Max Lightmap Size	最大光照贴图纹理的尺寸
Lightmap compression	光照贴图压缩级别
Ambient Occlusion	烘焙环境遮蔽中表面的相对亮度
Directional Mode	Directional 模式下，Unity 会生成第二个光照贴图来存储入射光线的主要方向。着色器在渲染过程中会对两个光贴图纹理进行采样。Non-directional 模式下只包含一个纹理，占用空间小
Albedo Boost	反照率增强，指定表面之间反弹的光量。该值介于 1 和 10 之间。增加该值会使间接光计算的反照率值偏向白色。默认值 1 在物理上是准确的
Indirect Intensity	间接强度，在实时和烘焙光照贴图中的间接光照的亮度。该值介于 0 和 5 之间。大于 1 的值会增加间接光强度，而小于 1 的值会降低间接光强度。默认值为 1

点 Generate Lighting 烘培光照贴图

场景中的 Plane 和 Cube 设置为静态物体，烘培后 Cube 上带一点间接反射的光照

在 Baked Lightmaps 这两个页签可以看到烘培的光照贴图

光照探针

光照烘培只能作用于静态物体，想要作用于动态物体，需要探针

Cube 取消勾选Static，下面加一个Light Probe Groups，重新烘培

每个黄色小球是一个光照探针，合起来为一个光照探针组，注意光照探针不要穿过地面或者墙壁，否则会影响效果

运行时最多受4个光照探针影响

反射探针

反射探测相当于一台相机，可以从各个方向捕捉周围环境的球形视图。捕获的图像被存储为立方体贴图，适用于光滑金属物体的反射效果

在场景中添加 Reflection Probe，调整范围，需要反射的物体需要勾选 Static，重新烘培光照，就能在反射探针上看到反射的立方体贴图

Type	Baked 生成的静态反射立方体贴图
	Custom 存储静态立方体图，该立方体图可以通过烘焙生成，也可以由用户手动设置
	Realtime 运行时更新立方体贴图，因此可以对场景中的动态对象做出反应

场景中创建一个Capsule，并把它的金属度，光滑度拉到最高

黄色方框是反射探针区域

自发光

自发光同样需要是静态物体

在材质上勾选 Emission 后设置自发光颜色，然后烘培

给墙壁添加上自发光效果

剪影

给灯光加个遮罩，形成特定形状的阴影

在灯光的 Cookie 上添加遮罩贴图，就能形成剪影

参考

siki 《游戏中超酷炫的光照渲染 》