Synopsys Sentaurus TCAD系列教程

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2022-11-4 Sentaurus专业术语缩写<一>
2022-11-4 体重 163.2

Sentaurus仿真工具概述

1. 仿真工具的认识

目标：简要介绍TCAD及其使用者

1.1 TCAD和半导体工业

• 计算机辅助设计技术(TCAD)是指使用计算机模拟来开发和优化半导体工艺和器件技术。TCAD仿真可以解答基本原理、物理和偏微分方程，例如离散几何体的扩散和传输方程、半导体器件中的衬底和层次架构。这种 密集的
  物理方法使TCAD模拟具有预测精度。因此，在开发和表征新的半导体器件技术时，可以用TCAD计算机模拟代替昂贵且耗时的流片验证。
• TCAD模拟在半导体工业中被广泛应用。随着技术变得更加复杂，半导体行业越来越依赖TCAD来降低成本并加快研发过程。另外，半导体制造商还可以使用TCAD进行成品率分析，也就是监控、分析和优化其工艺流程，以及分析IC工艺变化的影响。
• TCAD包括两个主要分支：过程模拟和器件模拟

1.2 工艺仿真

在工艺模拟中，基于控制各个工艺步骤的物理方程来模拟，这些工艺步骤包括蚀刻、沉积、例子注入、热退火和氧化等。离散化（网格化）和有限元结构来模拟硅片部分。
例如热退火模拟中，需要在网格上求解每种掺杂复杂的物理方程；而对于氧化物模拟，氧化硅的生长需要考虑氧元素的扩散、拐角处的机械应力等因素。

1.3 器件模拟

器件模拟可以被理解为半导体器件（如晶体管、二极管）电参数的虚拟测量。网格化有限元结构代替器件。器件的每个节点都具有与其相关的属性，例如材料类型、掺杂浓度等。对于每个节点，需要计算载流子浓度、电流密度、电场、生成率和复合率等。
电极表示为边界条件（例如施加电压）的区域。器件模拟器求解泊松方程和载流子连续方程（可能还有其它的方程），然后提取接触点的电流。