模电(一)半导体基础

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以下内容来自本人学习《模拟电子电路基础》第五版中总结,受多种因素影响,难免有所疏漏,如有发现纰漏或更好的建议烦请在评论或私信告知,谢谢!
文中的Question 欢迎大家在评论中留言分享。共同学习,共同进步!

基础概念

  1. 半导体(semiconductor):导电性介于导体与半导体之间。(Si,Ge…)
  2. 本征半导体(Intrinsic semiconductor):纯净的(无杂质)晶体结构(稳定的结构)的半导体。(单晶硅…)
  3. 导体(conductor):(Fe,Al,Cu…
  4. 绝缘体(insulator):惰性气体,高分子物质等…
  5. 载流子(carrier):运载电荷的粒子。(空穴(hole),自由电子(free electron))

本征半导体

在这里插入图片描述
1.本征半导体中有两种载流子(空穴与自由电子[成对出现])均导电,而导体导电只有一种载流子(自由电子)导电。
2.由于热运动,具有足够能量的价电子挣脱共价键的束缚形成自由电子,自由电子的产生使共价键中留一个位置,称为空穴。
3.复合运动:自由电子与空穴相碰同时消失。
4.一定温度下,自由电子与空穴的浓度相等,随温度升高,浓度上升。
5.外加电场,自由电子与空穴均参与导电(运动方向相反),数量少,导电性差。
6.热力学温度0K时不导电。

Question 1:为什么将半导体变成导电性很差的本征半导体?

杂质半导体

Def:扩散工艺,本征半导体掺杂
在这里插入图片描述

N(negative)型半导体

1.纯净Si中掺五价元素(P…)使其取代晶格中Si的位置
2.多子为自由电子,少子为空穴
3.杂质原子(P.)提供电子,称为施主原子

P(postive)型半导体

1.纯净Si中掺三价元素(B)使其取代晶格中Si的位置
2.多子为空穴,少子为自由电子
3.杂质原子(B)吸收电子,称为受主原子

杂质半导体主要靠多数载流子导电,掺杂多,导电强【导电可控】
多子浓度约等于所掺杂原子浓度,受温度影响小,少子本征激发,浓度低,受温度影响大,影响半导体性能

Question 2:杂质半导体,温度变化,载流子数目改变吗?多子少子有何变化?

PN结

【形成】

在这里插入图片描述
1.浓度差引起的扩散运动与电位差引起的漂移运动达到动态平衡
2.对称结:P区N区杂质浓度相等正负离子区宽度相等
3.不对称结:P区N区杂质浓度不等正负离子区宽度不等【浓度高的窄

【单向导电性】

在这里插入图片描述
PN结加正向电压导通,外电场消弱内电场,致使空间电荷区(耗尽层)变窄,扩散运动加强,漂移运动减弱,外电场作用形成扩散电流,PN结导通
在这里插入图片描述
PN结加反向电压截止,内电场消弱外电场,致使空间电荷区(耗尽层)变宽,漂移运动加强,扩散运动减弱,但少子数量很少,即使所有少子都参与,电流也使很小,可认为截止状态

Question 3:观察发现,PN结外加电压时电源串联一电阻,有必要?

【电流方程】

在这里插入图片描述
常温300K,UT=26mV

【VA特性】

在这里插入图片描述
正向特性u>0,反向特性u<0,反向电流可忽略不计,注意二极管
反向电压超过U(BR),反向电流增大,反向击穿【不控制,造成PN结永久性损坏
齐纳击穿:高掺杂,耗尽层窄,击穿电压低
雪崩击穿:低掺杂,耗尽层宽,击穿电压高

【电容效应】

势垒电容B
在这里插入图片描述
外加反向电压下,耗尽层宽度变化,有电荷的积累和释放过程,其等效电容为势垒电容。

扩散电容D
外加正向电压下,在扩散路程中载流子的浓度及其梯度均有变化,也有电荷的积累和释放过程,其等效电容为扩散电容。【留意非平衡少子】

结电容=势垒电容+扩散电容(Cj=Cb+Cd)

Question 4: PN结是否一直具有单向导电性?为什么?

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