一、第一章-常用半导体器件
1.1基础知识
半导体的概念:导电能力介于导体和绝缘体之间。
本征半导体:纯净的,具有晶体结构的半导体
由于四价原子周围本身只有四个电子,可以和四个原子形成这种结构状态,
三.载流子
半导体,终归是有一点导电能力的,但是上图中的价电子是不导电的,自由电子才是导电的。
那么,在上图的结构下,怎么导电呢?本征半导体中的载流子是什么,即承载电流的东西是什么?
1.本征激发
由于热运动的存在,上图结构中的价电子有可能会逃离共价键的束缚,逃离出来变为了自由电子,而该电子原来的地方就会形成一个空穴。
2.自由电子
自由电子是带负电的,它是可以导电了。留下的空穴相当于带正电。但想导电的话,自由电子还是太少了
3.空穴
空穴能不能导电呢?我们施加一个电场作用在上图中,那么,空学附近的电子就会在电场力作用下,跳到空穴中,填补了空穴,但又形成了新的空穴;如此反复,你跳到我这,他跳到你这,共价键的价电子依次填补空穴,形成了空穴的相对移动, 所以空穴也是载流子,也能导电。
4.复合运动
就是指那些脱离共价键的束缚的价电子的自由电子,在热运动下,乱撞,不小心刚好撞到空穴里面去,又被共价键束缚了。
四、载流子的浓度
能不能导电肯定不在于它载流子的数目的多少,关键是浓度。温度越高,浓度越高。
1.1.2杂质半导体
一、概念:在本征半导体中掺入 少量 的杂质元素
二、N型半导体:掺入磷( P )元素。 磷原子最外层有5个电子,在大量在硅原子环境中,磷原子的4个电子分别与1个硅原子的电子形成共价键,而剩余一个自由电子!
多子:在N型半导体中,自由电子数目可以是本征半导体的上百万倍,这里的自由电子也称多子。
少子:在N型半导体中,少子就是空穴。
在N型半导体中,温度对多子的数目影响不大,因为多子的来源主要是由于元素掺入而导致的,温度升高而加剧本征激发所产生的电子数目对其来说,微乎其微。
但少子受温度影响较大,对温度敏感。
而由于多子(自由电子)带负电,负:negative,故叫N型半导体
综上,当一种半导体的性能主要是由于少子影响时,那么它对温度敏感。而性能主要是由于多子影响时,那么它对温度不敏感。
三、P型半导体(Positive正)
掺入硼元素(B)
多子:空穴
少子:自由电子
1.1.3 PN结
一、PN结的形成
补充说明:N区是N型半导体,掺入P(磷元素),它的多子是自由电子,少子是空穴(图中未画出少量空穴);
P区是P型半导体,掺入硼,它的多子是空穴,少子是自由电子(图中未画出少量自由电子)
扩散运动:浓度高的沿着浓度梯度方向往浓度低的地方扩散。N区中的多数自由电子往P区赶过去;P区中的多数空穴往N区赶过去。
空间 电荷区:随着扩散运动的进行,PN之间形成了一个电场,形成了一个耗尽层,(阻挡层)。这个空间电荷区也叫做PN结
漂移运动:
对称结:左右的电荷区宽度一样,因为掺杂浓度一样。
不对称结:掺杂浓度不一样时,使得左右宽度不一样。
二、PN结的单向导电性
外加正向电压:处于导通
外加反向电压:处于截止(耗尽层变宽,加强了内电场,阻止扩散运动的进行,而加剧漂移运动的进行,形成反向电流,也称漂移电流。因为少子的数目极少,即使所有的少子都参与漂移运动,反向电流也非常小,分析时近似认为它截止)
三、PN结的电流方程
PN结所加端电压u与流过它的电流i的关系为:
四、PN结的伏安特性
.1.正向特性:一个死区加上一个指数的曲线
.2.反向特性:一条平行x轴的直线----饱和电流
雪崩击穿:掺杂浓度低,耗尽层宽度宽,反向电压足够大时,相当于变成一个粒子加速器,电场使得少子的漂移速度加快,当少子加速后,与共价键的价电子碰撞后,把价电子撞出共价键,产生电子-空穴对。新产生的电子与空穴被电场又加速,加速后又撞出其他价电子,载流子雪崩式地倍增,致使电流急剧增加。
齐纳击穿:掺杂浓度很高,所以耗尽层宽度很短,即非常狭窄。当你给它加一点电压时,里面的场强可能变得非常大,耗尽层的价电子可能都不用你动它,它直接啪的一声就出来了。
当发生反向击穿时,绝大多数PN结都损坏了,但不是以为击穿才损坏。
是因为反向击穿引起了PN结的温度升高,(电流*PN结的电压就是电功率,电功率发热去了,功率过大时,发热,消耗不了,就烧坏了)
1.2半导体二极管
1.2.1常见结构
1.2.2伏安特性
一、伏安特性
。1.由于体电阻的存在,在相同电压下,二级管的电流比PN结的小。
。2.由于二极管表面漏电流的存在,使得外加反向电压的反向电流大一些。
二、温度的影响
。1.温度升高,正向特性曲线左移,反向特性曲线下移。
理解:温度升高,本征激发更剧烈,粒子热运动更剧烈,在相同电压下,会有更多的载流子移动。
。2.在室温附近,若正向电流不变,温度每升高1度,正向压降 减小2-2.5mv;温度每升高10°C,反向电流Is约增大1倍。
1.2.3二极管的主要参数
一、最大整流电流IF(平均值)
二极管长期运行时允许通过的最大正向平均电流。
二、最高反向工作电压UR(瞬时值)
二极管工作时允许外加的最大反向电压,超过此值时,可能会反向击穿导致损坏,通常为击穿电压的一半。
三、反向电流IR
是二极管未击穿时的反向电流。其值越小,二极管的单向导电性越好。其对温度很敏感。
四、最高工作频率fM
是二极管工作的上限截止频率。超过此值时,由于结电容的作用,二极管将不能很好地体现单向导电性。
1.2.4二极管的等效电路
引出:二极管的伏安特性具有非线性,即不像我们平常说的那种电阻,U-i图是一条过原点的直线那种。 而非线性不便于分析,为了快速近似分析,常在一定条件下, 用线性元件所构成的电路来模拟二极管的特性,并用之取代电路中的二极管。
一般有两种办法来等效。
a:根据器件的物理原理来建立等效电路。是把二极管的每一部分的原理一步一步用线性元件等效出来。适用范围广,但模型较复杂,适于计算机辅助分析。
b:根据器件的外特性来构造等效电路,因而模型较简单,适于近似分析。
二、伏安特性折线化得到的等效电路
1.2.5稳压二极管
一、特点
二、伏安特性曲线
它仍是个二极管。
三、主要参数
看课本。
稳定二极管的稳压区是其工作在 反向击穿区,图中UZ部位,电流在IZ---IZM之间,,
电流小于IZ的话,它电流变化,电压也跟着变化,不是我门想要的稳压状态。
1.3晶体三极管(双极型晶体管BJT)
1.3.1结构及类型
一、构成方式
NPN或者PNP的三明治结构,相邻的两个区形成PN结。
发射区是发射载流子的区域。
集电区是收集载流子的区域。
发射区要发射载流子,因此发射区的掺杂浓度是最高的。
集电区的面积要很大。
基区很薄且掺杂浓度很低。
二、结构:三个区域、三个电极、两个PN结
图c中,箭头都在发射结,且由P指向N(发射结导通的方向:PN结内电场不是N指向P麻,正向导通是外电场与内电场方向相反,则是由P指向N)
1.3.2晶体管的电流放大作用
一、放大
晶体管控制能量的转换,将输入的任何微笑变化不失真地放大输出。具有电流放大作用,电流控制电流。
二、基本共射放大电路
发射结正向偏置(正向导通)
三、内部载流子的运动
1.发射结正偏(发射结的PN结外接正向电压)
{ PN结正向导通时,外电场与内电场方向相反 。外电场会将多子推向空间电荷区,使其变窄,削弱内电场,其实就是使得P区的多子往浓度低的方向赶,N区的多子也往浓度低的方向赶===加剧扩散运动,减弱漂移运动}
发射区(N区:负,多子为自由电子)的自由电子 往 基区(P区)扩散。
同时,基区的空穴 往 发射区 扩散。
但是,由于发射区掺杂浓度很高(多子:自由电子 数目很大),基区的掺杂浓度很低(多子:空穴 数目较少),发射区的自由电子扩散到基区后,与基区的少数多子发生复合运动后,便继续向集电区扩散了,因为扩散过来的自由电子太多了,基区没有足够的空穴来复合,。
基区: 空穴扩散到发射区, 与发射区扩散来的电子复合,同时产生新的空穴(就是把自由电子流到IB那)
2.基区:扩散,复合,产生
3.集电结反偏(集电区收集自由电子)
发射区的大量自由电子扩散到基区后,由于集电结反偏,这些电子会被迅速拉到集电区,保证浓度梯度的正常,让自由电子从发射区到基区再到集电区的扩散速度能维持下去。
四、放大系数
1.3.3BJT的共射特性曲线(共射:两个回路共用发射极)
输入回路:从基极到发射极
输出回路:从集电极到发射极
为什么叫它们是输入,输出呢,为什么不是倒过来呢?===理解究竟把什么输入进去,什么输出 了
iC是对iB的放大,对于放大电路来说,是用小信号去控制大能量。作为控制的那个小信号就是输入信号。
而用三极管做放大电路,我们就是用小信号去控制iB,再用iB控制iC。小信号的变化控制iB的变化,iB的变化去控制IC的变化。最后把iC作为能量(功率)的输出。
所以对于共射放大电路,iB这块是输入回路,iC那块是输出
一、输入特性曲线
跟二极管的伏安特性曲线没差太多,当C、E两端的电压为定值时,iB就只跟B、E两端的电压有关,
U CE=0时,相当于两端短路。此时的输入特性曲线跟二极管的没差。
在相同的U BE下,当U CE增加时,iB的电子来源就会被电场抢走很多到iC那里去,从而iB会减小,但是,当U CE增大到一定程度,已经把绝大部分都抢走了,就不会由太大变化了。
二、输出特性曲线
在iB为常数的条件下,研究iC与U CE的关系。
有三个区,截止区,放大区,饱和区
截止区:发射结和集电结都反偏。c、e断路。 由于发射结反偏,iB都没有,即为0,而iC是用iB控制的,此时iC只剩下那个穿透电流I CEO。
放大区:发射结正偏,集电结反偏。iB与IC成比例。
饱和区:发射结和集电结都正偏。 相当于上图大矩形那块是导通的麻,正向导通。一开始,iB在增加时,iC也跟着增加。假设,假设哈,假设发射结受得了,iB能无限增加,但是iC能跟着无限增加吗?不行@ 看上面电路图就知道,在导通时,且忽略导通压降,iC最大最大也就是
(VCC-UCE)/RC。
1.3.4晶体管的主要参数
一、交流参数
二、直流参数
*三、极限参数
1.3.5温度对晶体管特性及参数的影响
一、输入特性
跟之前的温度对二极管的伏安特性曲线的影响是一样的。
二、输出特性
1.3.6光电三极管
1.4场效应管
1.4.1结型场效应管
1.4.2绝缘栅型场效应管(MOSFET)
一、N沟道增强型MOS管
P区低浓度,N区高浓度。(N区多自由电子,P区多子虽为空穴,但量肯定不如N区自由电子)
1.结构: g栅极、s源极、d漏极(载流子的漏出处)
之所以叫绝缘栅,是因为上图中可看到,栅极g跟谁都绝缘,下面一层绝缘的二氧化硅,左右不相连。
2.工作原理
第二章 基本放大电路
2-1放大电路的构成
2.1.1放大的概念
一、特征:功率的放大
二、本质:能量的控制和转换
三、必要条件:有源元件(能够控制能量的元件)
四、前提:不失真
五、测试信号:正弦波(因为任何稳态信号都可分解为若干频率正弦信号(谐波)的叠加
2.1.2怎样构建基本放大电路
一、目标:小功率信号——》大功率
二、条件:1.有源元件 2.电源
三、技术路线
1.三极管———》放大状态
2.小信号———》iB(uBE)
3.合理的输出
四、直接耦合
阻容耦合:
两个电容的作用:通过交流,阻断直流
三、工作原理
静态工作点:
直流+小交流:
2-2性能指标
一、示意图
Ri是放大电路的等效电阻,对于一个电压信号源Us,要尽可能索取到原电压信号源的话,Ri是越大越好,另外,Us这画得是理想电压源,但是实际不是,它是会有功率输出的,而要它输出功率小,那就要电流小,要电流小,依然是Ri越大越好。
二、放大倍数
三、输入电阻Ri(从放大电路的输入端看进去的等效电阻)
四、输出电阻(从放大电路输出端看进去的等效内阻)
五、通频带
六、非线性失真系数
七、最大不失真输出电压
八、最大输出功率与效率
2-3放大电路的分析方法
2.3.1直流通路与交流通路
在之前的学习中知道,在多数情况下,直接接上交流信号源是没办法使三极管工作在放大状态。需要加上一个直流电源。
而动态变化,是在静态工作点Q上变化的。
从微变等效电路图也知道
对于不同点的Q,其切线不一样,致使相同电压变化量下,电流的变化量不同。
故放大电路的分析要分 直流通路和交流通路
2.3.2图解法
看书,画图,理解含义
2.3.3等效电路法
为什么不能用线性方法来分析这个放大电路呢,因为有个非线性元件--三极管。
关键:怎么才能把三极管线性化
iB和iC之间是线性的,iC=β*iB,,,但是,iB和uBE之间不是线性的。
但是,从图像上看,只看变化量的话,▲iB和▲uBE可以看作是线性的!
(只考虑交流作用下,不考虑直流)
如果能算出这么个东西,就能把三极管线性化了。这个电阻的电阻值就是上面图中的切线的斜率的倒数。
用r be来取代输入端口:b-e (输入端口就是描述uBE和iB之间的关系)
一旦静态点确定下来,在这个静态点附近的▲iB和▲uBE,发射结就等效:
对于输出端来说,输出电流:β*▲iB=▲iC,可以用受控的电流源来替代输出端口
低频交流小信号就可用这种等效模型
这种用r be的方法,相当于把原点上移了,不考虑直流电源了,只关心交流。(但并不是说交流单独作用,它是交流信号骑在直流信号上,再近似地把原点移过去来看)、
它分析思路:首先通过直流找到静态的Q点,Q点位置不同那是截然不同的(斜率不同);找到Q点后,求出该点切线的斜率,从而得到 r be,
一、直流通路
1.通过直流,找到Q点
2.由Q点,推 r be(Q点切线斜率的倒数)
静态工作点决定了 r be的大小。 r bb是基区的体电阻。
二、交流通路
1.画出交流通路
2.把交流通路中的三极管等效成线性电路
等效模型的思路分析(不是严谨的数学推理)
得时刻明白上面这些符号得物理意义。
上图中,虚线所在的位置的电流大小就是IB(纯直流),曲线所在点的电流是iB,曲线各点与虚线的差值(距离)就是ib(纯交流)
研究的时候,先静态,再动态。 静态就是虚线所在的IB,确定交流的ib在哪里上下动,再把交流的ib放上去。最后分析交流的响应。
在三极管上,虽然uBE和iB没有线性关系,但是,在它确定的静态Q点上,▲iB和▲uBE有线性关系,而▲iC=β*▲iB,根据这个特点,我们就有了一个线性元件等效模型
rbe是Q点所在切线的斜率的倒数,这么说的话,就是静态点会影响动态的等效电路的电阻,所以Q点会影响动态的电阻,故必须先分析出静态点Q在哪。{Q点不同,切线斜率不同,rbe就不同,那么相同的▲uBE,就会有不同▲iB;有不同的▲iB,就会有不用的▲iC;有不同的▲iC,就有不同的Uo}==={所以,给你相同的管子,相同的正弦信号源,只要你静态工作点Q不同,就有不同的放大倍数,输出就不同}
在图上反映就是,我们关注的是交流的uBE和交流的ib之间的关系
严谨的数学模型(h参数等效模型)
这是个双口网络,就可做混合参数模型。
分析各物理量的关系
为什么与那些量有函数关系自己想清楚,前面章节都有的。
而我想研究的是,它们各个变化量{▲iB,▲iC,▲uBE,▲uCE}之间的关系。
要研究▲uBE和▲iB的关系 ,可以通过对上面方程求全微分!
▲uBE等于两项,用串联方式相加两个电压
▲iC也是两项,但它是电流,用并联
一个受控电压源,一个受控电流源。
当低频小信号作用在三极管上时,三极管就可等效成上图的电路。(h参数等效模型)
在uCE > 1v时,h12非常小,量级是0.01,所以可忽略。
h22是晶体管的共射h参数等效模型中右边的图,曲线的上翘程度,也非常小,可忽略。
于是,能简化成下图:
由模型知道, 在分析完静态点Q后,就应该计算出rbe电阻大小。
rbb‘可由手册查获,它是基极的体电阻,re’是发射极的体电阻,但由于发射极掺杂浓度高,re‘很小,rb’e‘是PN结的电阻,二极管那章有讲。
输入电阻的求解:输入电压/输入电流
注意上面的Ie = Ib + β*Ib =(1+β)* Ib
IEQ = (1+β)* IBQ,,,所以上面公式可化简成:
但是用IEQ更贴近模型,更 容易理解物理意义
2-4放大电路Q点的稳定
2.4.1必要性
一、对Q点的影响
1.温度(主要)
2.电源的波动(可以采用好的电源,波动小)
3.元器件的老化(让元器件出厂前就老化一些)
二、温度Q点的思路
我们知道,温度上升,IC上升,有没有什么办法,在温度上升时,出现另一股力量,拉回IC。
什么使IC变化?===IB,什么使IB变化====uBE。
温度上升时,IC在增大, 如果IC在增大的同时,我能让uBE下降,使得IB下降,从而使IC下降。
2.4.2 Q 点稳定的电路
一、构成
二、分析
2.6基本放大电路的派生电路
2.6.1复合管放大电路
一、复合管的组成
电流一定要有合理的通路,所等效的管子与前面的主管是相同类型。
h参数等效模型要会运用,(注意:不是用在等效后的单管子上,而是等效前的复合管上,bce端口均两个,有的重合在相同位置)
2.6.2共射-共基放大电路
它集成了两种电路的优点。共射把电流电压放大(共基没放大电流) ,利用共基的通频带宽,把通频带进一步拓宽。
射极输出的好处是其前端的输入电阻大,可以跟电压型的信号源获得更大的Ui,同时,也让Us尽可能减小它的输出功率,