晶圆表面的亲水性与疏水性,一个很容易被人忽视的细节,可能影响到整个芯片的性能。从制备光刻胶涂层,到清洗过程,再到某些薄膜的制备,晶圆表面的湿润性影响着每一个关键步骤。今天将深入探讨这两种表面特性,解析其在半导体制程中的作用,以及如何通过各种表面处理方法来优化晶圆的亲水性和疏水性。
疏水性表面则是指当水滴接触到表面时,形成的接触角大于90度。即在晶圆表面形成水珠,典型的疏水性例子是荷叶上的水珠。 亲水与疏水的原理 晶圆表面的亲水性和疏水性主要与其表面化学基团有关。化学基团决定了表面对水分子的吸引力强弱,也就决定了其亲水性或疏水性。
亲水性表面,其上的化学基团更愿意与水分子进行相互作用而形成氢键。在这样的表面上,水可以很好地铺展开来,形成一个较低的接触角。
等离子改性:等离子体处理是一种常用的方法,利用气体等离子体对晶圆表面进行改性,生成亲水性或疏水性表面。例如,氧气等离子体处理可以使硅表面产生亲水性,而氢气等离子体处理则可以产生疏水性表面。
疏水性表面则是指当水滴接触到表面时,形成的接触角大于90度。即在晶圆表面形成水珠,典型的疏水性例子是荷叶上的水珠。 亲水与疏水的原理 晶圆表面的亲水性和疏水性主要与其表面化学基团有关。化学基团决定了表面对水分子的吸引力强弱,也就决定了其亲水性或疏水性。
亲水性表面,其上的化学基团更愿意与水分子进行相互作用而形成氢键。在这样的表面上,水可以很好地铺展开来,形成一个较低的接触角。
等离子改性:等离子体处理是一种常用的方法,利用气体等离子体对晶圆表面进行改性,生成亲水性或疏水性表面。例如,氧气等离子体处理可以使硅表面产生亲水性,而氢气等离子体处理则可以产生疏水性表面。