mos1ex02相比于第一个例子,主要进行了mos的输出特性仿真,工艺结构是一样的,所以就只简单讨论一下atlas特性仿真的部分。
go atlas
#进入特性仿真
# define the Gate workfunction 定义栅极接触类型,mos栅接触——欧姆接触
contact name=gate n.poly
# Define the Gate Qss
interface qf=3e10
# Use the cvt mobility model for MOS 选择要使用的模型
models cvt srh print numcarr=2
#numcarr=2 加入空穴和电子两种载流子
method climit=1e-4 maxtrap=10
#method,仿真时数值计算的方法,主要的方法有:newton、gummel、block。
#maxtrap=10,maxtrap-在出现发散时重复陷阱过程的次数,设置范围1-10,默认值4,步长折回的次数。
#climit-浓度归一化因子,表示数值分析中的误差测量,默认值1e4;
# set gate biases with Vds=0.0
#在Vds=0,改变栅压的大小,转移特性曲线
solve init
solve vgate=1.1 outf=solve_tmp1
solve vgate=2.2 outf=solve_tmp2
solve vgate=3.3 outf=solve_tmp3
#load in temporary files and ramp Vds
load infile=solve_tmp1
log outf=mos1ex02_1.log
solve name=drain vdrain=0 vfinal=3.3 vstep=0.3
#漏极电压扫描;Vgs不变时,改变Vds,输出特性曲线
load infile=solve_tmp2
log outf=mos1ex02_2.log
solve name=drain vdrain=0 vfinal=3.3 vstep=0.3
load infile=solve_tmp3
log outf=mos1ex02_3.log
solve name=drain vdrain=0 vfinal=3.3 vstep=0.3
# extract max current and saturation slope
#提取最大的电流和饱和斜率
extract name="nidsmax" max(i."drain")
extract name="sat_slope" slope(minslope(curve(v."drain",i."drain")))
tonyplot -overlay mos1ex02_1.log mos1ex02_2.log mos1ex02_3.log -set mos1ex02_1.set
quit