多晶假片漂洗,用氢氟酸加硝酸,去除多晶,多晶下面的氧化层也会被腐蚀掉,而裸硅也不安全,会被硝酸氧化,氢氟酸再把氧化层刻蚀掉。以上造成多晶漂洗难以实现,难免有氧化层甚至裸硅被腐蚀掉。提出的解决方案就是定时关注漂洗状态,到氧化层了就要慎重,既要漂洗干净不残留多晶,又要保留一定的氧化层。
VGS样片已经做到1612/1651的水平,可以通过显微镜看到栅氧时候的缺陷,如果是划伤类型,则是几个小黑点成一条线。
多晶假片漂洗,用氢氟酸加硝酸,去除多晶,多晶下面的氧化层也会被腐蚀掉,而裸硅也不安全,会被硝酸氧化,氢氟酸再把氧化层刻蚀掉。以上造成多晶漂洗难以实现,难免有氧化层甚至裸硅被腐蚀掉。提出的解决方案就是定时关注漂洗状态,到氧化层了就要慎重,既要漂洗干净不残留多晶,又要保留一定的氧化层。
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