1、基于Cadence617,仿真mos管的V-I特性曲线

本文详细描述了如何使用CADENCE617软件对TSMC18RF工艺的N-MOS进行仿真,包括设置输入转移特性曲线(VGSvsID)和输出特性曲线(VDSvsID),以分析开启电压和沟道长度调制效应。

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使用到的软件,cadence 617,工艺是tsmc18rf

1、原理图

对于nmos来说,源端和衬底接地,栅极和漏极给电压,这里为了方便后续的电压的扫描仿真,将栅压和漏极电压命名为vgs、vds,后面在ADE中方便修改。

2、仿真设置

(1)查看输入曲线(转移特性曲线)

MOS管的输入曲线显示了MOS管的输入栅压和漏端电流之间的关系,所以,漏端电压vds先固定下来等于2v,让栅极电压从0变化到10v,观察id随vgs的变化曲线,输出选择M0器件的漏端口。

从仿真结果图中,可以看出,mos管的开启电压在800mv左右,在8v左右,随着vgs的升高,id不再上升,可以看作是进入到了饱和区。此时 

i=\frac{1}{2}\mu c_{ox}\frac{w}{L}(v_{gs}-v_{th})^{2}(1+\lambda v_{ds}),考虑沟道长度调制效应。如果不考虑,\lambda = 0

(2)查看输出特性曲线

输出特性曲线,是考虑vds和id之间的关系,固定vgs等于3.3v,vds从0变化到5v,观察id的变化,如下图所示。

接着观察,vgs从0变化到4v时,id随vds变化的曲线,仿真设置如下图。

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