ASML后悔莫及，中国芯片选用国产和日本光刻机，它并非不可替代

由于众所周知的原因，全球最大的光刻机供应商ASML给中国供应光刻机的条件被一再加码，对此它也曾声言即使给中国厂商图纸，中国也无法生产光刻机，然而近日中国芯片招标芯片设备却狠狠扇了它的脸。

据悉近期中国企业举行了芯片设备招标，招标设备数量达到106台，其中光刻机全数采用国产光刻机和日本光刻机，ASML收获了个鸭蛋，颗粒无收，中国用事实告诉它，它并非不可替代。

ASML的光刻机技术确实领先，EUV光刻机只有它能生产，并且它也已在推进用于2nm的第二代EUV光刻机量产，预计最快在2024年交货，凸显出它在光刻机技术方面的领先优势，只是它的EUV光刻机无法出售给中国；近期由于众所周知的原因，ASML的14nm以下的DUV光刻机也被限制出售给中国。

如此情况下，ASML的光刻机市场竞争力被削弱，而中国在光刻机技术方面则快速进展，中国此前一直在力推28nm、14nm光刻机的量产，此次招标或许代表着中国的这些光刻机技术已有所突破。

此外日本光刻机也非常看重中国市场，据分析机构给出的数据，日本光刻机其实仍然占有很大的市场份额，ASML占有六成的份额，而日本的佳能、尼康等占有四成的市场份额，早年佳能、尼康曾遥遥领先于ASML，如今ASML受限，日本光刻机希望复兴，而中国市场就成为日本光刻机的希望，此次招标无疑鼓舞了日本光刻机。

中国此次给日本光刻机大量份额，除了日本光刻机可以满足中国芯片制造的需求之外，还在于日本在芯片制造技术方面的独特优势，日本已开发出无需光刻机的NIL工艺，目前NIL工艺已被日本的铠侠用于生产存储芯片，据称NIL工艺已突破10nm，预期未来可以用于5nm工艺。

日本在芯片制造技术方面的优势给了中国启发，中国除了进一步完善光刻机产业链，延续现有的芯片制造工艺技术之外，其实也在研发无需光刻机的工艺，而日本希望重振芯片设备产业，由此中国和日本可以合作共赢。

当然这一切也与中国自身的努力分不开，中国经过数年的发展已形成完整的芯片制造产业链，芯片制造八大环节搞定七个，其中刻蚀机更达到了5nm，更是全球唯一一个拥有光刻机全产业链的国家，一旦光刻机技术突破，那么中国的芯片制造就实现了完全自主化。

按照以往一贯的做法，只要中国取得突破，海外的设备就会迅速放开供应，并且是降价供应，而中国这次的招标就代表着中国既可以依靠自己的芯片产业链，也可以从日本采购相关的设备，ASML并非唯一的选择。

面对这次的挫败，ASML或许已经后悔莫及，毕竟如今全球芯片行业萎缩，对芯片设备的需求正在下滑，它的最大客户台积电还计划年底前关闭部分EUV光刻机，如此情况下中国市场可谓是芯片设备行业的甘霖，ASML失去这个市场将可能导致它的业绩大幅衰退，甚至影响生存。