浅谈Power Signoff

本文探讨了芯片设计中的Power Signoff流程,包括静态和动态功耗分析、Signal-EM分析以及静态IR/EM检查。重点介绍了动态功耗的计算、静态功耗中的电迁移分析,以及动态电压降和去耦电容的作用。文章还提到了关键工具如Cadence Voltus和ANSYS Redhawk,并强调了在低阈值电压和小型化工艺中,漏电功耗的重要性。
摘要由CSDN通过智能技术生成

Power Analysis是芯片设计实现中极重要的一环,因为它直接关系到芯片的性能和可靠性。Power Analysis 需要Timing Analysis 产生包含频率、transition 等时序信息的 Timing File,也需要包含Net Capacitance和Resistance信息的SPEF文件,功耗分析工具根据timing file 和RC value计算功耗或者分析IR-Drop/EM。

    

在介绍数字后端Power Signoff Flow之前,先大概论述一下芯片的功耗构成和基本原理。芯片功耗主要分为Static Power (静态功耗)和Dynamic Power(动态功耗)两大类。动态功耗来自于芯片晶体管的开关翻转,它取决于芯片的时钟频率和switching activity。静态功耗是指芯片晶体管的LeakagePower(泄漏功耗)。

 

进一步细分,动态功耗可以分为Internal Power和Switching Power.

  • Switching power是由于芯片内instance 上的逻辑翻转对有效负载电容进行充放电所消耗的功耗。公式如下,其中,a是switching activity,f是clock frequency,Ceff是有效负载电容,Vdd是芯片电源电压。

  • Internal power是由于晶体管信号传输的某一个瞬间,PMOS和NMOS会同时导通的短路电流消耗的功耗。对于更低阈值
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芯片Signoff检查是芯片设计流程的最后一步,用于确保芯片的性能、可靠性和可制造性符合设计规范和要求。Signoff检查通常包括以下几个步骤: 1. 版图布局检查:包括DRC(设计规则检查)和LVS(逻辑与版图一致性检查),用于检查版图是否符合制造工艺规范和设计规则。 2. 时序分析:包括STA(静态时序分析)和SI(信号完整性分析),用于分析芯片的时序特性和信号完整性,确保芯片的时序满足设计要求,并且信号在芯片内部传输的稳定性和可靠性得到保障。 3. 功耗分析:包括功耗仿真和IR Drop分析,用于分析芯片的功耗特性,确保芯片的功耗符合设计要求,并且电源和地线的电压稳定性得到保障。 4. 可制造性分析:包括DFM(设计制造合一)和DFY(设计制造合一),用于分析芯片的可制造性,确保芯片的制造工艺符合制造要求,并且芯片的测试和可靠性得到保障。 5. 特殊检查:包括EM(电磁兼容性分析)和ESD(静电放电分析),用于分析芯片的电磁兼容性和静电放电特性,确保芯片的稳定性和可靠性得到保障。 以上是芯片Signoff检查的主要步骤,不同公司和项目可能会有所不同。在实际应用中,需要根据具体的芯片设计要求和制造工艺要求,选择合适的检查步骤和工具,确保芯片的性能、可靠性和可制造性得到保障。
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