本文探讨了《炬丰科技-半导体工艺》中关于光学薄膜的湿刻蚀，评估了MgO、Al2O3等氧化物在不同蚀刻溶液中的性能。研究了光刻图案在照明行业中应用的湿法蚀刻工艺，以及单层和多层涂层的光学干涉效果。此外，还提及了吸收式过滤器的特点和局限性。
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》
文章：光学薄膜的湿刻蚀
编号：JFKJ-21-334
作者：炬丰科技
摘要
在这项工作中，对通过物理气相沉积生长的几种不同薄膜氧化物的湿蚀刻性能进行了评估。MgO、Al2O3、SiO2、TiO2、HfO2、ZrO2和Y2O3被涂覆在两种类型的基材上；Si 和硼硅玻璃以及蚀刻测试在不同的蚀刻溶液中进行。MgF2 薄膜也已被评估。考虑到薄膜选择的重要方面，以匹配良好的光学性能，如折射率 (n)、消光系数 (k) 和光学厚度 (TP) 以及湿蚀刻中的良好化学性能过程。描述了滤光片的物理原理以及不同氧化物相互堆叠的组合如何创建干涉滤光片。介绍了使用物理气相沉积 (PVD) 的薄膜的制造过程。
研究了由多孔涂层引
最低0.47元/天 解锁文章
330
被折叠的 条评论
为什么被折叠?
到【灌水乐园】发言
