MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor)

一、MOSFET结构及基本特性

MOSFET把输入电压的变化转化为输出电流的变化,是一种电压控制型器件,用跨导来表示输出电流的变化和输入电压的变化之比。

N-switch 低电平断开

P-switch 高电平断开

1、MOSFET的4种结构

 2、转移特性曲线

 3、输出特性曲线

4、 MOSFET的工作原理

以NMOS为例,当栅极加上足够高的电压(V_{GS}> V_{TH})时,栅氧化层下方的P型材料发生反型,从而源漏导通,MOS管开始工作;反之则MOS管截止,没有电流通过。

MOS管只靠一种极性的载流子(电子或者空穴)来传输电流,因此称为单极型晶体管。

5、MOS管的工作状态

非饱和状态:当V_{GS}变化时,R_{on}将随之变化,因此该区域也被称为可变电阻区。I_{DS}随着V_{DS}的增加而上升,两者基本上是线性关系,所以可以看作是一个线性电阻。当V_{GS}不同电阻的阻值就会不同,所以在该区MOS管相当就是一个由V_{GS}控制的可变电阻。

饱和状态:V_{GS}一定时,I_{DS}基本饱和,随V_{DS}变化而变化不大,也称恒流区。

截止状态:在该区域内,V_{GS}<V_{T},管子处于截止状态。

6、MOS管的特性参数

开启电压V_{T}(阈值电压):是促使源极和漏极之间开始形成导电沟道所需要的栅极电压,不同工艺阈值电压有所不同。

击穿电压:栅源击穿电压BV_{GS},漏源击穿电压BV_{DS}

导通电阻R_{on}:用来说明V_{DS}I_{D}的影响,当V_{GS}为某一固定值时,R_{on}=\frac{\Delta U_{DS}}{\Delta I_{D}}是漏极特性曲线中某点切线斜率的导数;MOS管的导通电阻与二氧化硅的厚度有很大关系,厚度越小,电场作用越好,相同栅压时导通能力越强,但也容易引起击穿,工艺制作难度增大。

低频跨导g_{m}:

二、电流—电压关系

以n沟道增强型MOSFET为例。

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