RefineMask:实例分割,使用细粒度信息增强性能

标题:RefineMask: Towards High-Quality Instance Segmentation with Fine-Grained Features

论文:https://arxiv.org/pdf/2104.08569.pdf
代码:https://github.com/zhanggang001/RefineMask/

CVPR 2021 论文,作者单位:清华大学、商汤科技、同济大学、中科院自动化所。

0

动机


实例分割是计算机视觉领域中比较有挑战性的任务之一,Mask R-CNN是实例分割任务的经典方法,但是包括Mask R-CNN在内的多种方法,都会在实例分割时损失一些细节信息,如下图所示:

从上图中可以看出,Mask R-CNN总体而言有比较高的实例分割精度,但其在边界区域的精度不是很高。造成这种现象的原因有二:(1)深层次feature map的空间尺寸通常比较小,难以保留细节信息;(2)ROI Pooling操作进一步减小了feature map的空间尺寸,造成了细节信息的丢失。

与实例分割不同的是,语义分割任务不需要使用高层次特征区分不同的实例,因而其feature map的空间尺寸比较大,因此能够产生高质量的分割结果,尤其是在分割的边界有比较高的质量,如上图中图(b)所示。

作者提出了RefineMask,在二阶段实例分割框架的基础上,使用细粒度特征弥补细节丢失,如上图中图(c)所示。


01

网络总体结构

RefineMask总体结构如下图所示:

RefineMask以FPN目标检测器为基础,上图中省略了detection head。RefineMask在检测器基础上额外增加了semantic head和mask head。

semantic head使用FPN中尺寸最高的feature map作为输入,semantic head中不包含下采样等空间压缩操作,因此semantic head的输出和输入有同样的尺寸,从而保证其输出有丰富的细节信息。semantic head的输出用于辅助mask head做实例分割。

mask head使用“多阶段”的形式完成实例分割任务,在每个阶段中包含Semantic Fusion Module(SFM),mask head会融合包含细粒度信息的semantic feature和semantic mask,然后增加feature map尺寸用于更细粒度的mask预测。

此外,在mask head中还包含Boundary-Aware Refinement(BAR)操作,增强对实例边界的预测能力。


02

Semantic Head

semantic head包含4个卷积层,用于提取整张输入图像的语义信息,还包含1个二值分类器用于输出每个像素点属于前景的概率。使用二值交叉熵损失函数训练semantic head。

将semantic feature和semantic mask统称为细粒度特征,在mask head中,使用semantic head输出的细粒度特征补充细节信息,从而预测出高质量的instance mask。


03

Mask Head

3.1 Initial Mask

在mask head中,首先有一个RoIAlign操作,输出 的feature map,紧接着是2个 卷积操作产生instance feature,然后使用1个 卷积操作预测instance mask,在RefineMask中将该mask称作initial mask,作为后续操作的输入之一。

3.2 Multi-stage Refinement

mask head中的主体操作为multi-stage refinement,每个stage包含4个输入:(1)instance feature,(2)instance mask,(3)semantic feature,(4)semantic mask。

在每个stage中,Semantic Fusion Module(SFM)融合上述4个输入,然后进行上采样操作,得到尺寸更大的特征。SFM的结构如下图所示:

如上图所示,SFM中首先包含 卷积操作用于融合多个输入、减少通道数;紧接着是3个并行的 卷积,每个卷积都有不同的dilation参数设置,用于提取不同感受野的特征;最后将instance mask、semantic mask与融合后的特征进行concat操作,作为SFM输出。

在mask head中包含多个SFM,完成多次特征上采样操作。

3.3 Boundary-Aware Refinement(BAR)

BAR的目的是更关注mask的边界信息,以提高网络对mask边界细节的预测能力。

边界区域的定义

使用 表示第 个stage的instance mask, 的尺寸为

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