TPAMI 2024 | 用于稠密光场重建的剪切焦谱

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题目:Sheared Epipolar Focus Spectrum for Dense Light Field Reconstruction

用于稠密光场重建的剪切焦谱

作者:Yaning Li; Xue Wang; Guoqing Zhou; Hao Zhu; Qing Wang


摘要

本文提出了一种从稀疏输入视图进行光场(LFs)密集重建的新技术。我们的方法利用了Epipolar Focus Spectrum (EFS) 表示法,它通过变换的空间-焦点域来建模光场,避免了对场景深度的依赖,为密集光场重建提供了高质量的基础。先前的基于EFS的光场重建方法同时学习跨视图、遮挡、深度和剪切项,这使得训练过程因稳定性和收敛问题而变得困难,并进一步导致在具有挑战性的场景中的重建性能受限。为了解决这个问题,我们对从具有稀疏和密集角采样的LF导出的EFSs之间的转换进行了理论研究,并提出密集EFS可以明确地分解为稀疏输入EFS、剪切EFS和高阶遮挡项的线性

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IEEE TPAMI(IEEE Transactions on Pattern Analysis and Machine Intelligence)是一个涵盖模式识别、计算机视觉、图像处理和机器学习等领域的高质量期刊,其中也包括用于缺陷检测的研究。 以下是一些在IEEE TPAMI期刊上发表的用于缺陷检测的论文: 1. "Automatic Defect Detection in X-Ray Images Using Convolutional Neural Networks"(使用卷积神经网络自动检测X射线图像中的缺陷)-- 该论文提出了一种基于卷积神经网络(CNN)的自动缺陷检测方法,该方法可以应用于各种类型的X射线图像中的缺陷检测。 2. "Unsupervised Defect Detection in Textured Materials Using Convolutional Autoencoders"(使用卷积自动编码器在纹理材料中进行无监督缺陷检测)-- 该论文提出了一种基于卷积自动编码器(CAE)的无监督缺陷检测方法,该方法可以有效地检测纹理材料中的缺陷。 3. "A Hierarchical Approach to Defect Detection in Semiconductor Wafer Images"(半导体晶圆图像缺陷检测的分层方法)-- 该论文提出了一种基于分层方法的缺陷检测方法,可以应用于半导体晶圆图像中的缺陷检测。 4. "Deep Learning-Based Defect Detection in Semiconductor Manufacturing"(基于深度学习的半导体制造中的缺陷检测)-- 该论文提出了一种基于深度学习的缺陷检测方法,可以应用于半导体制造中的缺陷检测,并且在实验中取得了良好的结果。 这些论文都展示了IEEE TPAMI作为一个重要的期刊,提供了广泛的研究和应用领域,包括缺陷检测。
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