1.抗反射涂层
在表面添加抗反射涂层可以提高光的利用率从而提高器件的量子效率(手册558页),最简单的抗反射涂层一般由一层透明的绝缘材料组成,其厚度为光学波长的1/4。Silvaco 中采用传输矩阵理论来处理抗反射涂层,抗反射涂层只影响光学性能,不影响器件的电学性能,因此在器件模拟中把他当做器件的接口处理,而不是把它作为器件结构的组成部分。如下图是单层抗反射涂层示意图:
INTERFACE OPTICAL AR.INDEX=2.05 AR.THICK=0.0634 P1.X=0.0 P1.Y=0.0 P2.X=10.0 P2.Y=0.0
INTERFACE 用来指定半导体/绝缘体边界的界面参数。
interface optical 语句用来指定界面的光学属性, AR.INDEX指定涂层的折射率, AR.THICK指定涂层厚度, P1.X=0.0 P1.Y=0.0 P2.X=10.0 P2.Y=0.0,指定矩形涂层范围。
当涂层是由多层做成时,需要用到多个interface 语句来说明。如:
INTERFACE OPTICAL AR.INDEX=1.5 AR.THICK=0.06 P1.X=0.0 P1.Y=0.0 P2.X=10.0 P2.Y=0.0 REGION =2
INTERFACE OPTICAL AR.INDEX=2.05 AR.THICK=0.06 COATING=1 LAYER=2
在本例中,折射率为1.5的第一涂层在指定边界框内的所有边界上与区域编号2相邻。除了第一层外,后面的每一层必须要有涂层数 coating及层数 layer的说明,本例中涂层中的第二层折射率为2.05,layer=2表明是第二层。
2. 纹理结构表面
对于有纹理结构表面的器件,通过haze 函数和角分布函数来描述漫反射与反射光的比例。例如:
INTERFACE OPTI P1.X=0 P2.X=1 P1.Y=0 P2.Y=0 DIFF ELLIPSE SEM=.31 SIG=20
由diff 参数声明 p1到p2之间为纹理结构表面,ELLLIPSE 参数来表明角分布为椭圆分布,其半长轴为0.31,SIG表明表面特征尺寸为20nm,该数值可以由扫描电镜图观察。
为了激活传输矩阵模型,需要在BEAM语句中加上 DIFFUSE 及TR.MATRIX,如:
BEAM NUM=1 AM1.5 WAVEL.START=0.3 WAVEL.END=1.2 WAVEL.NUM=50 TR.MAT DIFFUSE
传输矩阵默认参数如下:
这些参数都可以根据具体情况进行调整。
角分布函数可以为:CONSTANT , TRIANGLE , GAUSS , LORENZ , LAMBERT , or ELLIPSE
如:
#SnO/p
interface opti p1.x=0 p2.x=1 p1.y=0.5 p2.y=0.5 diff lambert sig=45 cr=0.3 ct=0.3 nr=2 nt=3
#p/i
interface opti p1.x=0 p2.x=1 p1.y=0.509 p2.y=0.509 diff lambert sig=45 cr=0.3 ct=0.3 nr=2 nt=3
#i/n
interface opti p1.x=0 p2.x=1 p1.y=0.659 p2.y=0.659 diff lambert sig=30 cr=0.2 ct=0.2 nr=2 nt=3
#n/Ag
interface opti p1.x=0 p2.x=1 p1.y=0.6805 p2.y=0.6805 diff lambert sig=30 cr=0.2 ct=0.2 nr=2 nt=3