ue4 改变枢轴位置_UE4渲染模块概述（五）---静态光照

在上一篇中介绍了反射：

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同反射一样，光照和阴影在实时渲染中是很难计算的。因此如方法论中介绍的，能预计算的就尽量预计算，能用空间换时间的就尽量换。静态光的光照/阴影都是可以预计算的，动态光则需要实时计算。

本章讨论的是静态光照/静态阴影。静态光是指光源本身不会移动，且不会随游戏进程改变状态。静态光/阴影是在编辑器里预计算的，它们被存储于光图(lightmap）里。

使用光图的优点如下：

(1)不需要运行时计算，节省性能；

缺点如下：

(1)需占用不少内存

(2)预计算的时间较长，每移动一个物件，都需要重新build lightmap

(3)非常大的模型可能会没有足够的空间存储lightmap

这里看上去缺点很多，但都是预计算、以空间换时间必须要付出的代价，只要是运行时性能省下来了，就还是值得的。

lightmap光照贴图本质上就是一张纹理，是一张烘焙有光照和阴影信息的图片，类似于纹理的UV采样，我们也会对存于模型上的光照UV坐标进行采样，将采样结果乘以固有色basecolor得到有光照的渲染效果。图示如下：

在UE4中，会把许多光照贴图打包到一起，类似于下面：

我们可以在worldsetting里面看到这些打包好的光照贴图，但不可修改它们。

我们用LightMass来生成光照贴图，可以配置所需要的贴图精度，分散在两个地方：

(1)build光选项里面的光照质量，如preview,high,productive

(2)worldsetting里面的lightmass选项，如下图：

对于一些想要高精度lightmap的地方，可以放置一个光照重要性体积（light importance volume），UE确保体积内的任何东西都有更高质量的光照 （如战斗区域），而体积外则使用低质量光照（如人物移动不到的远景）。需要注意的是，光图的精度主要影响的内存与文件大小，而不是帧率。

对于光图的制作/烘培过程，我们可以通过下面的方法来提升烘焙速度：

(1) 降低光图分辨率

(2) 减少灯光或场景内物件数量

(3) build时仅使用preview方式

(4)灯光设置较小的衰减半径与光源半径（即使光影响范围小）

在编辑器里，可以查看光图的密度：

选中后编辑器内的效果如下：

方格越小，颜色就越绿，这表示光照贴图精度越高。对于一些镜头不常看到的地方（如空中的立柱），建议使用低细节度的光照贴图即可。

光图主要是针对直接光生成的光照纹理，对于因多次反射产生的间接光，UE是使用了一种称之为Indirect Light Cache（间接光照缓存）来进行处理。特别是对于移动中的物体（比如说游戏角色），间接光照缓存的光照信息能弥补lightmap的不足。UE4采用了布置采样点方式来生成间接光照缓存，如下图所示：

灰白色的点即为采样点，对于任何物体，都会找到离它最近的采样点，查询到它的亮度信息，然后将采样结果与物体自身颜色进行混合。可以选中物件，在下图位置找到间接光的配置项：

下拉菜单有三项可选：不使用采样点，使用采样点，使用采样体积。使用采样体积是指选用更多的采样点，比如周围5*5*5个点来计算间接光照。

间接光照缓存是在build lightmap同时做的，采样点会在lightmass importance volume范围内生成，可能会超出一点点。需要注意的是，采样点不是等密度的，一般来说地面的采样点多于空中的采样点，如果想要在空中也有较高密度的采样点，可以创建一个Lightmass Character Indirect Detail Volume（Lightmass角色间接细节体积），如下：

在worldsetting这里可以配置采样点的生成密度：

配置好就可以在空间也获得比较好的间接光质量了，如下图：

关于静态光的lightmap与Indirect lighting cache就介绍到这里，下一部分会介绍动态光照：

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