匀胶时光刻胶的溶剂是如何变化的？

知识星球里的学员问：从匀胶到软烘，光刻胶中的溶剂是在不断减少的，那么请问溶剂是如何变化的，涉及到哪些原理。

光刻胶中的溶剂的种类及作用？丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA），乙二醇甲醚醋酸酯（EGMEA），1-甲氧基-2-丙酯等。溶剂的首要作用是溶解光刻胶中的聚合物、感光剂和其他添加剂。使光刻胶形成均匀的液相状态。其次是可以调节光刻胶的粘度。 光刻胶溶剂在如何变化？
在旋转涂胶前，光刻胶通常包含65%到85%的溶剂。旋转胶后，溶剂减少到10%到20%，但是胶膜仍处于半液半固体状态。软烘后溶剂的理想量约为4%到7%。由于溶剂在软烘过程中减少，光刻胶膜的厚度也在不断减薄。 光刻胶溶剂为什么会变少？ 空气流动
旋涂过程中，会在晶圆表面和周围产生空气流动，形成层流或湍流。溶剂会不断挥发，导致溶剂量减少。 离心力旋涂过程中，由于晶圆的高速旋转，离心力将光刻胶甩向晶圆边缘，同时多余的溶剂被甩出，导致溶剂量减少。 烘烤
加热过程中，光刻胶层中的溶剂吸收热能，其分子运动加剧，蒸汽压升高。当蒸汽压超过大气压时，溶剂分子从液态转变为气态并蒸发。      欢迎加入我的半导体制造知识星球社区，目前社区有1900人左右，是国内最大的半导体制造学习平台。在这里会针对学员问题答疑解惑，上千个半导体行业资料共享，内容比文章丰富很多很多，适合快速提升半导体制造能力，介绍如下： 》