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一、场效应管简述
效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管.由多数载流子参与导电,也称为单极型晶体管.它属于电压控制型半导体器件.
特点:
具有输入电阻高(108~109Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点,现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者.
二、场效应管常用范围
- 场效应管可应用于放大。
- 场效应管可以用作电子开关。
- 场效应管很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换,常用于多级放大器的输入级作阻抗变换。
- 场效应管可以用作可变电阻。
- 场效应管可以方便地用作恒流源等。
三、场效应管导电沟道的形成
NMOS导电沟道的形成:
当vGS达到某一数值时,电子在栅极附近的P衬底表面便形成一个N型薄层,且与两个N+区相连通,在漏——源极间形成N型导电沟道。vGS越大,作用于半导体表面的电场就越强,吸引到P衬底表面的电子就越多,导电沟道越厚,沟道电阻越小。
即当vGS≥VT时,导电沟道形成。
PMOS与NMOS相反,Vgs小于一定的值就会导通。
四、PMOS与NMOS的区别
NMOS的特性,Vgs大于一定的值就会导通,适合用于源极接地时的情况(低端驱动),只要栅极电压达到4V或10V就可以了。
PMOS的特性,Vgs小于一定的值就会导通,适合用于源极接VCC时的情况(高端驱动)。但是,虽然PMOS可以很方便地用作高端驱动,但由于导通电阻大,价格贵,替换种类少等原因,在高端驱动中,通常还是使用NMOS。
思考:
如何使用NMOS与PMOS管做一个12V IO输出控制电路
要求,输出信号IO_12V
IO可输出高电平或低电平