谁是ASML的最大股东?为何荷兰光刻巨头要听美国的话?

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来源:EETOP

整理:technews

目前能生产7 纳米以下芯片的极紫外光(EUV) 光刻机,只有荷兰ASML,ASML可说是掌握全球芯片先进制程的关键。ASML 的EUV 光刻机通常优先供货给台积电、三星、英特尔三家,其他要买都要排在三家之后。但为什么ASML 优先卖给这三家?首先当然是三家都是大客户,因此有特别待遇,其次为外界都认为这三家是ASML 大股东,当然先照顾大股东。

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但台积电、三星、英特尔真是ASML 大股东吗?故事得从ASML 历史谈起。ASML 历史可追溯到1984 年,荷兰飞利浦(Philips)与半导体设备制造商ASM International (ASMI) 共同出资创立了ASML,双方各持股50%,但飞利浦于ASML 经营困难时又增资,持股比例上升。1995 年ASML 正式上市,飞利浦连续分几次抛售ASML 股票,故飞利浦与ASML 现在没有任何关系。

之后ASML 迎接转折点,在台积电建议下,合作研发浸润式光刻机,使ASML突飞猛进,市占率超过老牌光刻机大厂日本佳能、尼康 等。后来研发EUV 光刻机时ASML 觉得投资太高、风险太高,一度准备放弃,但台积电、三星、英特尔决定投资ASML,支持ASML 研发EUV 光刻机,才有ASML的EUV 光刻机世界独强地位。

当时英特尔出资41 亿美元,拿下ASML 15% 持股,一度成为最大股东。台积电投资14 亿美元,持股占比达5%。三星则投资8 亿欧元,持股占比3%。剩下77% 是ASMI 及其他投资者共同持有。之后EUV 光刻机研发成功,使ASML 股价大涨,英特尔、台积电、三星大量减持ASML 持股,目前英特尔股份低于3%,三星、台积电甚至低于1%,都排不上大股东名单了。

据公开资料分析,ASML 第一大股东是美国资本国际集团(Capital Research andManagement Company),拥有15.81% 股权。第二大股东是美国贝莱德集团(BlackRock Inc.),拥有7.95% 持股。第三大股东是英国巴美列捷福投资(Baillie Gifford),拥有4.54% 股份。剩下股权都非常分散,持股机构高达1 千多家,但都为低于3% 的法人、小股东。总体来说ASML 受美国资本控制,也是为何ASML 虽是荷兰企业,却服从美国法令。美国限制EUV 光刻机出口,ASML 就必须遵守。 

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### 回答1: ASML公司是全球领先的半导体设备制造商,主要生产光刻机等晶片制造设备。在ASML公司的光刻机系列产品中,常见的型号有以下几种: 1. NXT系列:包括NXT-1970Ci、NXT-1970、NXT-1970B、NXT-1970i和NXT-1980Ci等型号。这些光刻机基于ASML最新的Illuminator和Projection Lens技术,可以为半导体制造商提供高精度的晶片制造解决方案,适用于7nm工艺及以下的生产。 2. TWINSCAN系列:包括TWINSCAN XT、TWINSCAN XTS、TWINSCAN NXT等型号。这些光刻机主要应用于14nm工艺及以下的芯片生产。其特点是高可靠性和高生产效率,能够满足客户需求。 3. PAS系列:包括PAS 5000/5500、PAS 5500 MarkⅡ/MarkⅢ、PAS 5500W之类的型号。这些光刻机是ASML公司过去生产的传统光刻机型号,适用于生产28nm工艺及以上的芯片。虽然已经逐渐被NXT和TWINSCAN系列取代,但仍然广泛应用于一些客户的制造流程中。 总之,ASML提供了多种型号的光刻机,以满足客户在不同工艺节点的需求。随着半导体工艺的不断进步,ASML的光刻机技术也将不断创新,为晶片制造行业带来更先进、更高效的生产解决方案。 ### 回答2: ASML(荷兰阿斯麦公司)是全球领先的半导体制造和研发设备的供应商之一,其所生产的光刻机不仅技术先进,而且广泛应用于半导体芯片制造中。以下是ASML 光刻机型号列表: 1.ASML PAS 5000/5500:ASML的第一代光刻机,用于半导体制造的成像和曝光,适用于70纳米到2微米的芯片制造。 2.ASML Twinscan XT:该系列光刻机适用于32纳米到10纳米芯片制造,可以进行抗反射层和多层曝光。 3.ASML Twinscan NXE:这是ASML的EUV(极紫外)光刻机系列,使用13.5纳米的光源进行曝光,适用于7 纳米以下的芯片制造。 4.ASML AT: 该系列光刻机专为自动芯片制造而设计,适用于生产智能手机、平板电脑和其他移动设备芯片。 5.ASML XT: 使用双倍曝光技术的XT系列,可以提高曝光精度并增加生产效率,适用于芯片尺寸从32纳米到14纳米。 总之,ASML 的光刻机系列涵盖了从2微米到7纳米的生产尺寸,以及多层曝光、EUV技术等各种先进技术。它们在半导体制造领域中得到了广泛应用,用于生产电子产品的关键元器件。 ### 回答3: ASML光刻机是世界领先的半导体生产设备制造商之一,很多人都想了解ASML光刻机的型号列表。目前ASML光刻机型号不胜枚举,但我们可以列举出一些常见的型号: 1. 公司产品主要有ArFi光刻机、EUV光刻机和DUV光刻机,ASML的ArFi光刻机包括TwinScan NXT: 1450i、TwinScan NXT: 2030i和TwinScan NXT: 1970Ci等,EUV光刻机主要有NXE: 3350B和NXE: 3400C等型号。DUV光刻机则包括130nm到28nm节点的机型,如TWINSCAN KrF、TWINSCAN XT、TWINSCAN AT、TWINSCAN XT: 1700i和TWINSCAN NXT: 1960Ci等。 2. ASML光刻机还分为低压和高压两种类型,低压光刻机主要适用于半导体制造过程中的深紫外、紫外和可见光技术,如TWINSCAN XT、TWINSCAN AT等机型,而高压光刻机主要适用于生产较低成本的低功耗芯片,如TWINSCAN NXT: 1960Ci等机型。 3. ASML光刻机还分为4英寸、6英寸、8英寸和12英寸等尺寸,如TWINSCAN AT:3400S、TWINSCAN NXT:1460、TWINSCAN NXT:1950、TWINSCAN NXT:2000i等。 总之,ASML光刻机是半导体生产中不可或缺的重要设备之一,其型号繁多,不同型号适用于不同的生产需求,无论是在技术上和经济上都是非常优秀的选择。

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