CMOS门电路工作原理与构成的反相器详细分析

MOS管复习

N沟道增强型

在这里插入图片描述
1.不导通的情况:在漏极和源极之间加上电压 v DS,令栅极和源极之间的电压 v GS=0,此时漏极(D)和源极(S)之间相当于两个PN结背向连接。

2.N沟道增强型:存在 v GS,且 v GS大于某个电压 v GS(th)(必须加入足够高的栅极电压才有导电沟道形成),形成D-S导电沟道,则 i D流通。
随着 v GS增大——导电沟道截面积也增大—— i D 增大

共源接法

以栅极G-源极S间为输入回路,以漏极D-源极S为输出回路。
第一个点:栅极G和衬底之间有SiO2隔离,加上电压 v GS以后,不会有栅极电流流通,也就是无输入特性曲线。
输入特性:直流电流为0,看进去有一个输入电容CI,对动态有影响。
输出特性:
iD = f (VDS) 对应不同的VGS下得一族曲线 。
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截止区:VGS<VGS(th),iD = 0, R OFF > 10^9Ω
恒流区: iD 基本上由VGS决定,与VDS 关系不大(虚线右侧)
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可变电阻区(虚线左侧):当VDS 较低(近似为0), VGS 一定时,V DS / i D为常数,这个电阻受VGS 控制、可变。
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P沟道增强型

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1.不导通的情况:令栅极和源极之间的电压 v GS=0,此时不存在导电沟道。
2.导通:在栅极加足够的电压时,才能把N型衬底的少数载流子——空穴吸引到栅极下面,形成p型的导电沟道。
需要V GS为负值
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由这个MOS开关电路来看:
v1=0,MOS 管不导通,输出低电平V OL,R D远小于MOS的截止内阻R OFF时,V OL约等于-V DD
v1<V GS(th),MOS管导通,输出为高电平,V OH 约等于0

N、P沟道耗尽型

在这里不予列图详细介绍,后面所用大多为增强型。
耗尽型原理即为在V GS =0时就已经存在导电沟道了。
在这里插入图片描述
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MOS管的基本开关等效电路

前面在介绍P沟道增强型已经介绍了P沟道增强型的开关等效电路。
下面来介绍N沟道增强型的开关等效电路。原理一致。
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也可等效为以下电路:
在这里插入图片描述

CMOS反相器

C代表complementary,意思是将2个MOS管联合起来。
T1为P型,T2为N型
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先来总体看一下它的反相作用:
v1=0:
在这里插入图片描述在这里插入图片描述
v1=v OH=v DD:
在这里插入图片描述
可见,输入与输出是逻辑非的关系,由于静态下无论输入是高电平还是低电平,T1和T2总有一个是截止的,且截止内阻又极高,则流过T1和T2的静态电流极小,则CMOS反相器的静态功耗极小。
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电压电流传输特性

1.电压传输特性
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转折区中点对应的电压称为阈值电压(V TH)
难以理解的时候看两者的输出关系曲线。N沟道曲线位于上方,P沟道曲线位于下方。

2.电流输出特性
在这里插入图片描述
因为栅极电流近似为0,对我们电路分析主要起作用的还是漏极电流 i D
这张图我们可以对应着电压传输特性来看。
AB、CD段均有一个MOS管截止,所以内阻非常高,漏极电流近似为0.
关注BC段,两个管子同时导通,有电流 iD流过两个管子,且在阈值电压1/2V DD处最大。
这点特性我们需要考虑到它的功耗,如果长期工作在BC段可能造成元器件的损坏。

输入端噪声容限

它的意思是输入会有一个波动,而我们的输出的高低电平需要基本保持不变。
所以在此情况下允许输入信号的高低电平有一个波动范围,这个范围就称为输入端的噪声容限。
在这里插入图片描述
输入高电平时:有一个最低输入电平V IH min
输入低电平时:有一个最高输入电平V IL max

测试结果表明, 在输出高、低电平的变化不大于限定的10 % VDD 情况下, 输人信号高、低电平允许的变化量约为30 % VDD 。因此得到
V NH=V NL约等于30 %V DD 。
可见,CMOS 电路的噪声容限大小是和V DD有关的。V DD越高, 噪声容限越大。

在这里插入图片描述
图一中可以看出不同V DD下的电压传输特性
图二中可以看出不同V DD下的V NH、V NL变化关系。

CMOS反相器的静态输入特性和输出特性

输入特性

反相器输入电流和电压的关系。
我们通常会在CMOS反相器前加入保护电路,这是因为MOS管的衬底和栅极间的绝缘介质非常薄,容易被击穿。
在这里插入图片描述
若二极管的正向导通压降为VDF , 则v1>VDD+VDF 后时, D1 导通, 将TI 和T2 的栅极电位钳在VDD+VDF
保证加到C2上的电压不超过VDD+VDF , 而当后v1< -0.7 v 时,D2 导通, 将栅极电位钳在-VDF保证加到C1上的电压也不会超过VDD+VDF。因为多数c M ()S 集成电路使用的VDD不超过18V, 所以加到C1和C2上的电压不会超过允许的耐压极限。
保护范围在-VDF<v1<VDD+VDF

输出特性

低电平输出特性

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第一组图:这时负载电流从负载电路注人T2 , 输出电平随I OL增加而提高。
第二组图:同样的I OL——VDD增加——V GS2增加——T2导通电阻减小——分压V OL减小

高电平输出特性

在这里插入图片描述
这时V OH的数值等于V DD减去T1管的导通压降。随着负载电流的增加, T 1的导通压降加大,V OH下降。如前所述, 因为MOS 管的导通内阻与vGS大小有关, 所以在同样的IOH值下VDD越高, 则TI 导通时vGS1越负, 它的导通内阻越小, V OH也就下降得越少。

<think>嗯,用户想了解如何搭建一个简易的恒位仪。首先,我需要回忆恒位仪的基本原理。恒位仪主要用于维持工作参比之间的位恒定,通常用于化学实验中,比如腐蚀研究或池测试。 接下来,我应该考虑用户可能的背景。他们可能是学生或者子爱好者,想要自己动手制作一个简单的装置,可能预算有限,所以需要材料容易获取,路不要太复杂。需要确保解释清楚每个部分的作用,避免使用过于专业的术语,但又要准确。 首先,系统级指令要求学公式用$...$,独立公式用$$...$$。比如欧姆定律、运算放大器的虚短虚断原理需要正确应用LaTeX格式。例如,欧姆定律可以写成$V=IR$,而运算放大器的输入压差接近零,即$V_+ \approx V_-$。 然后,结构方面需要分步骤。可能需要先介绍原理,再讲路设计,然后元件选择,搭建步骤,最后校准测试。每个部分要详细但简洁。比如,运算放大器作为核心,如何构成路,三管或MOSFET作为功率输出,流采样阻的选择。 需要注意用户可能忽略的细节,比如参比的重要性,如何避免干扰,路的稳定性问题,比如是否需要补偿容。还要提醒安全事项,比如高流下的发热,防止短路等。 可能需要检查是否有常见的错误,比如运算放大器的压是否足够,反馈回路是否正确,流测量阻的阻值是否合适,是否会影响被测系统。例如,采样阻过大会引入额外压降,可能影响恒位控制,所以通常选择小阻值但足够产生可测压的阻。 另外,用户可能需要校准步骤,比如如何用万用表调整位,确保控制精度。或者如何用示波器观察稳定性,是否有振荡现象,这时候可能需要调整补偿容。 最后,总结应用场景限制,说明这个简易装置的适用情况,比如低流、要求不高的实验,而高精度需求可能需要更复杂的设计,比如使用专用芯片或字控制。 总之,要确保回答结构清晰,逐步引导用户理解原理、设计、搭建测试,同时注意LaTeX格式的正确使用,符合用户的需求系统指令的要求。</think>好的,我将按照化学实验需求,分步骤说明如何搭建一个简易恒位仪: $$E_{we} = E_{ref} + V_{control}$$ 一、基本原理 1. 通过运算放大器构成负反馈系统 2. 实时比较工作(WE)参比(RE)的位差 3. 调节对(CE)的流输出,维持设定位 二、核心路设计 ```plaintext +15V | C | V_ref ----+----|+\ Q1 | \_________| NPN WE -----R1-----|-/ |______ CE | | R2 R_sense | | GND GND ``` 三、关键元件选择 1. 运放:低偏置流型(如TL081),带宽>1MHz 2. 功率管:TIP31C(最大流3A) 3. 采样阻:$R_{sense} = \frac{V_{max}}{I_{max}}$(例:1Ω/5W) 4. 反馈阻:$R1=R2=10kΩ$(精度1%) 5. 补偿容:$C=100pF$(防振荡) 四、搭建步骤 1. 构建差分放大路: - 按路图连接运放输入端 - WE接反相端,$V_{ref}$接同相端 2. 功率输出级: - 用达林顿管扩流,β值应满足:$β > \frac{I_{max}}{I_{opamp}}$(约>1000) 3. 流检测: $$V_{measure} = I \times R_{sense}$$ 建议用差分放大器测量$R_{sense}$两端压 五、校准测试 1. 零点校准: - 短接WERE,调节$V_{ref}$使输出流为零 2. 阶跃响应测试: 输入方波信号,用示波器观察: $$t_{rise} < 10\mu s \quad (对1mA阶跃)$$ 六、注意事项 1. 接地处理:模拟地功率地单点连接 2. 屏蔽措施:RE引线需双层屏蔽 3. 稳定性条件:相位裕度>45°,满足: $$\frac{1}{2πR_fC_c} > f_{unity-gain}$$ 应用场景:适用于腐蚀研究、沉积等基础实验,控制精度可达±10mV,流范围1μA-1A。如需更高精度建议采用位ostat方案。
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