书籍:《炬丰科技-半导体工艺》
文章:自对准双图案的蚀刻研究
编号:JFKJ-21-271
作者:炬丰科技
摘要
提出了一个完整的FinFET蚀刻模块的工艺流程,作为实验,以确保目标薄膜以适当的速度均匀地蚀刻。 提出的工艺流程是在RIT开发的
书籍:《炬丰科技-半导体工艺》
文章:自对准双图案的蚀刻研究
编号:JFKJ-21-271
作者:炬丰科技
摘要
提出了一个完整的FinFET蚀刻模块的工艺流程,作为实验,以确保目标薄膜以适当的速度均匀地蚀刻。 提出的工艺流程是在RIT开发的