三个不可缺少的二级效应
(1)体效应/背栅效应
随着的下降,
增加,
也增加,称为体效应/背栅效应
(2)沟道长度调制效应
当增大时,实际的反型沟道长度逐渐减小,称为“沟道长度调制”
定义,并且假设
我们可以得到:
(3)亚阈值导电效应
实际上,时,一个“弱反型层”仍存在,并且有一些源漏电流;甚至当
,
也不是无限小,而是与
呈现指数关系。该效应称为“亚阈值导电”。
当左右时,该效应可用公式表示为:
MOS小信号模型:
①由于沟道长度调制效应,漏电流随着漏-源电压变化。这一效应可以用线性阻抗 表示出来;
②衬底电势影响阈值电压,因而也影响栅-源过驱动电压。在所有其他端子保持恒定的电压的情况下,漏电流是衬底电压的函数,也就是说衬底相当于另一个栅。
{ 注意:和
有相同的极性,所以增大栅电压与增大衬底电压效果相同。}
③完整的小信号模型也包括器件电容。
为了能够直观地分析一个复杂的电路,基本方法是确立一个最简单的器件模型,只要该模型能以合理的精度来表征每个晶体管的功能。