模拟CMOS集成电路设计入门学习(1)

三个不可缺少的二级效应

(1)体效应/背栅效应

随着V_{B}的下降,Q_{d}增加,V_{TH}也增加,称为体效应/背栅效应

(2)沟道长度调制效应

u_{GS}增大时,实际的反型沟道长度逐渐减小,称为“沟道长度调制

定义L^{'}=L-\Delta L,并且假设\frac{\Delta L}{L}=\lambda V_{DS}

我们可以得到:I_{D}\approx \frac{1}{2}u_{n}C_{ox}\frac{W}{L}(V_{GS}-V_{TH})^{2}(1+\lambda V_{DS})

(3)亚阈值导电效应

实际上,V_{GS}\approx V_{TH}时,一个“弱反型层”仍存在,并且有一些源漏电流;甚至当V_{GS}< V_{TH}I_{D}也不是无限小,而是与V_{GS}呈现指数关系。该效应称为“亚阈值导电”。

V_{DS}> 200mV左右时,该效应可用公式表示为:

I_{D}=I_{0}exp\frac{V_{GS}}{\xi V_{T}}

MOS小信号模型:

①由于沟道长度调制效应,漏电流随着漏-源电压变化。这一效应可以用线性阻抗 r_{o}=\frac{\delta V_{DS}}{\delta I_{D}}\approx \frac{1}{\lambda I_{D}}表示出来;

衬底电势影响阈值电压,因而也影响栅-源过驱动电压。在所有其他端子保持恒定的电压的情况下,漏电流是衬底电压的函数,也就是说衬底相当于另一个栅。

g_{mb}=g_{m}\frac{\gamma }{2\sqrt{2\Phi _{F}+V_{SB}}}=\eta g_{m}

{  注意:g_{m}V_{GS}g_{mb}V_{BS}有相同的极性,所以增大栅电压与增大衬底电压效果相同。}

③完整的小信号模型也包括器件电容

为了能够直观地分析一个复杂的电路,基本方法是确立一个最简单的器件模型,只要该模型能以合理的精度来表征每个晶体管的功能。

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