本学期有课程,学习Silvaco Altas进行器件仿真。故在此记录学习心得。
1. 引言
由下图可知,使用Silvaco Altas进行器件仿真共有五个步骤,分别为:定义结构、定义材料和模型、选择求解方法、求解描述、结果分析。
我在阅读Diode-04例程感到疑惑。由于SiC并不是一个熟悉的材料,对各种材料参数的定义便不可逃避。同时,温度在本例程中是主要因素,模型中需要引入温度依赖的模型参数。因此,对于这些模型的条理和顺序,我不甚清楚。
故想要通过这篇文章,梳理第二步骤,Material Models Specification。
2. 模型定义
2.1 概述
Atlas-users1手册中,章节3.6 physical models定义了多种物理模型。在本学期课程中,比较常用的有:
- Mobility Modeling, 迁移率模型
- Carrier Generation-Recombination Models, 载流子产生复合模型
- Impact Ionization Models, 碰撞离化模型
- Band-to-Band Tunneling, 能带隧穿模型
2.2 迁移率模型
2.3 载流子产生-复合模型
2.4 碰撞离化模型
3. 部分常用模型
3.1 迁移率模型(CONMOD, FLDMOD & CVT)
- CONMOD, 描述载流子迁移率与掺杂浓度的依赖关系;
- FLDMOD , 描述载流子迁移率与平行电场的依赖关系;
- CVT,反型层中载流子模型;综合考量横向电场、掺杂浓度、温度对载流子迁移率影响;
在迁移率模型中具有最高优先级;
3.2 载流子产生-复合模型
3.2.1 SRH综合模型(SRH, CONSRH)
- SRH, Shockley-Read-Hall (SRH) Recombination
- CONSRH, SRH Concentration-Dependent Lifetime Model
3.2.2 俄歇复合模型(AUGER, KLAAUG)
- AUGER, Standard Auger Model
- Klaassen’s Temperature-Dependent Auger Model
3.3 碰撞离化模型
-
SELB, Selberherr’s Impact Ionization Model
-
GRANT, Grant’s Impact Ionization Model
-
COWELL, Crowell-Sze Impact Ionization Model
3.4 能带模型
- The Universal Energy Bandgap Model,描述能带与温度的依赖关系;
- Passler's Model for Temperature Dependent Bandgap,同样描述能带与温度的依赖关系;
- Bandgap Narrowing,能带变窄理论。重掺杂导致能带变窄。
3.5 Physical Models for MOSFETs, BJTs
对于初学者而言,Silvaco对于MOS、BJT提供了整合模型。
4.总结
Silvaco Altas用户手册中,定义了诸多物理模型。以此文章为例,我尝试理解并梳理一些常用的物理模型,以帮助我理解例程中的器件仿真。
不过显然还需要继续学习,用户手册的文字对我而言仅仅是文字,我无法联系到文字背后的意义。我希望能够回答这两个问题:
- 本次器件仿真,需要使用哪些物理模型?
- 考虑到某些因素(如温度、掺杂浓度等),又需要引入哪些模型参数以修正?