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前言
人工智能时代,DRAM的容量扩展受到限制, 需要迫切解决,以满足应用的要求[2]。
3D DRAM是指以垂直方向存储位的体系结构,类似于3D NAND[1]。
3D X-DRAM可以使用现有的3D NAND闪存存储器工艺进行制造,只需进行微小的改变,大大降低了开发新的3D工艺所需的时间和成本。
图片: 2D -> 3D RAM
来源: appliedmaterials
挑战
DRAM的速度几乎比NAND快1000倍,并且通过使用高迁移率硅基底作为起始材料形成通道来实现这种速度。DRAM的高速也源于能够快速将电荷移入和移出电容器。
挑战有[3]:
缩放和层叠方面的挑战
电容器和晶体管的缩小
单元间连接以及通道数组