【ASML】EUV光刻技术PPT

最新推荐文章于 2024-07-24 12:26:17 发布
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ASML Scanner 光刻机介绍
01-26
ASML Scanner 光刻机介绍
EUV光刻机技术简介（英文）.pdf
09-12
EUV光刻机技术简介（英文）.pdf
ASML内部资料 传递函数描述
09-25
荷兰ASML光刻机公司内部控制类PPT资料 介绍传递函数计算描述 开环,闭环，灵敏度传函的定义；伯德图的matlab绘制
ASML的光刻机霸主之路
人工智能学家
09-15 3756
来源：半导体行业观察半导体制造产业中，光刻机是核心设备，对芯片的工艺制程起着决定性作用。光刻是半导 体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生...
推荐几本纳米级光刻机书籍
qq_42450767的博客
01-11 3644
开始学习纳米级光刻机的小伙伴，可以由易到难看一下下面几本书，最后一本是ASML的光刻机之路，也可以大致了解一下。 ...
EUV光刻机全球出货量达57台
人工智能学家
07-31 484
来源：内容编译自「semiwiki」，谢谢。IMEC是推动半导体技术前进的主要组织之一，日前，他们举办了一场线上论坛，谈及了对芯片现状和未来的看法。在演讲中，ASML总裁则对光刻的发展进...
半导体光刻机行业深度报告：复盘ASML，探寻本土光刻产业投资机会
人工智能学家
07-19 3353
报告来源：西南证券1、 提要：光刻工艺是晶圆制造最核心环节，光刻产业链协同发展成为光刻机突破关键因子1.1 光刻定义晶体管尺寸，光刻工艺合计占芯片成本近 30%2019 年全球半导体市...
ASML掀开台积电的老底，28纳米以后的芯片工艺升级都是假的！
柏颖漫谈
06-17 418
近期光刻机龙头ASML突然发疯，发布PPT，揭开了台积电的等芯片制造企业的先进工艺的技术细节，指出台积电等的先进工艺，其实从28纳米以后就已脱离了原来的芯片工艺命名规则，芯片工艺的命名早已脱离了原来的命名规则。ASML指出在28纳米以上工艺的时候，芯片制造工艺的栅极间距都低于芯片工艺的名字，即是65纳米，芯片的栅极间距低于65纳米，但是在28纳米以下工艺，芯片的栅极间距难以迅速缩短，芯片制造企业的...
重磅！0.2nm路线图来了！详细讲解技术实现！
人工智能学家
05-23 273
来源：tomshardware编译：EETOP世界上最先进的半导体研究机构 Imec 最近在比利时安特卫普举行的未来峰会上分享了其亚1nm和晶体管路线图。该路线图让我们大致了解了到 2036 年Imec将在其实验室与台积电、英特尔、三星和 ASML 等行业巨头合作研发的下一个主要工艺节点和晶体管架构的时间表。该路线图包括突破性晶体管设计，从持续到 3nm 的标准 FinF...
Asml光刻机及工艺介绍
01-08
Asml光刻机及工艺介绍
半导体设备之ASML：EUV光刻机需求强劲，经营业绩再创历史新高.zip
10-22
1. EUV光刻技术：EUV（极紫外）光刻是集成电路制造中的核心技术之一，用于在硅片上精确地打印电路图案。与传统的深紫外（DUV）光刻相比，EUV具有更高的分辨率，能实现更小的微缩尺寸，推动了半导体行业的摩尔定律...
Intel放弃157nm光刻技术
12-09
英特尔的光刻技术供应商包括ASML和Nikon，以及在65纳米节点评估中的Canon。原本计划是在2003年用193纳米技术处理90纳米节点，2005年使用157纳米技术处理65纳米节点，然后在2007年采用极紫外光（EUV）技术处理45纳米...
光刻机ASML内部培训资料 介绍芯片的制作流程以及光刻机的部分原理
09-25
这份“光刻机ASML内部培训资料”为我们揭示了芯片制造的核心过程和光刻机的工作原理，这对于理解现代微电子技术的发展至关重要。 芯片的制作流程主要包括以下步骤： 1. **设计**：首先，工程师使用电子设计自动化...
Nature：清华唐传祥团队成功进行“稳态微聚束”首个原理验证实验
数据派THU
03-04 9716
来源：探臻科技评论 本文约2500字，建议阅读5分钟本文为你介绍清华唐传祥团队“稳态微聚束”首个原理验证实验。 图片来源｜视频《为什么欧美能造出EUV光刻机？国产EUV设备何时出现？...
Intel慌了，开始用PPT工艺对标台积电，但难掩盖它的落后
柏颖漫谈
04-12 143
Intel还在加紧推进Intel 4工艺的推进，但是它已开始宣传更先进的Intel 18A工艺，这些可谓是PPT工艺，原因是苹果推出的M1给它巨大的震撼，因此试图通过宣传这些PPT工艺挽回客户的信心。Intel在爱尔兰的Fab 34项目推进的是Intel 4工艺，原本预期到2023年量产，但是今年1月已开始装配ASML的EUV光刻机，预计将提前在今年下半年量产；Intel...
2019，AI芯片五大战事！
Open_The_World的博客
11-16 2870
智东西（公众号：zhidxcom） 文 | 心缘 导语：“AI芯片”这个新鲜的概念在过去一年间逐渐走过了普及的阶段，越来越被大众所熟知。在行业走过野蛮生长，开始加速落地、加速整合的过程中，也有更多的AI芯片公司也开始走出属于自己的差异化路线。 智东西在此前AI芯片系列报道第一季之后，再次出发，进一步对AI芯片全产业链上下近百家核心企业进行差异化的深度追踪报道。此为智东西AI芯片产业系列报道第...
Github 2024-07-24 开源项目日报 Top10
老孙正经胡说
07-24 1083
根据Github Trendings的统计，今日(2024-07-24统计)共有10个项目上榜。
GitHub 详解教程
最新发布
m0_46566693的博客
07-24 2452
GitHub 详解教程
asml步进光刻机编程作业指导书
10-29
ASML步进光刻机编程作业指导书是为了帮助操作员正确地进行ASML步进光刻机的编程工作而提供的一本指南。这本指导书详细介绍了ASML步进光刻机的编程原理、操作步骤和注意事项，以确保操作员能够准确、高效地完成编程任务。 首先，指导书会简要介绍ASML步进光刻机的工作原理，包括光刻机的结构、核心组件和工作流程等方面的内容。这有助于操作员对光刻机的基本工作原理有一个全面的理解，为后续的编程工作打下基础。 然后，指导书会详细说明ASML步进光刻机的编程步骤。这包括了设置刻膜参数、设定曝光模式、选择光刻图案、输入坐标信息和设定曝光参数等内容。操作员需要按照指导书中的步骤进行操作，确保每个参数和设置都准确无误。 指导书还会提供一些常见问题和解决方法，帮助操作员在遇到问题时能够快速排查和解决。这些问题可能涉及到光刻机设备、编程软件或操作操作等方面，指导书会给出针对性的解决方案，以保证编程工作的顺利进行。 最后，指导书会介绍一些注意事项和安全操作规范，确保操作员在编程过程中能够遵循正确的操作规程，不会给自己和周围环境带来安全隐患。 总之，ASML步进光刻机编程作业指导书是一本对于操作员来说非常重要的参考工具，它提供了编程工作所需的关键信息和操作步骤，帮助操作员正确、高效地完成编程任务，确保光刻机设备的正常运行。
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