WLP的工艺流程 再配线层(RDL)第一层 Photolitho Via形成 为了提高Seed层的铜和镀铜的接触特性而进行Descum Photolitho Via形成是利用光刻技术制作孔洞的过程,这些孔洞将作为后续工艺中金属填充的通道。通过在光敏胶层上照射光线,并使用掩膜来控制照射的区域,从而在胶层上形成所需的图案。之后,通过显影液处理,将未被光照射的胶层去除,从而形成孔洞。这些孔洞将作为种子层(Seed layer)与外部电路连接的通道。 Cu Pillar作成 Cu formation by plating