半导体器件的制造需要消耗大量的水,在器件制造的许多不同阶段,水被用于表面清洁、湿法蚀刻、电镀和化学机械平坦化等。半导体制造所需的水不是普通意义的水,是经过严格处理,并符合半导体制造标准的超纯水。
普通的水中含有氯,硫等杂质,会腐蚀芯片中的金属。如果水中有Na,K等金属杂质,会造成MIC(可动离子污染)等问题。因此芯片制造需要一个绝对干净的水质,超纯水应运而生。在芯片制造过程中,微小的杂质或颗粒可能会导致产品缺陷,甚至导致产品失效。因此不仅是水,其他各种半导体材料如化学品,气体等都需要超高的纯度。
芯片厂超纯水的制备 超纯水的制备通常包括三个阶段:预处理阶段,主处理阶段,以及精化阶段。
普通的水中含有氯,硫等杂质,会腐蚀芯片中的金属。如果水中有Na,K等金属杂质,会造成MIC(可动离子污染)等问题。因此芯片制造需要一个绝对干净的水质,超纯水应运而生。在芯片制造过程中,微小的杂质或颗粒可能会导致产品缺陷,甚至导致产品失效。因此不仅是水,其他各种半导体材料如化学品,气体等都需要超高的纯度。
芯片厂超纯水的制备 超纯水的制备通常包括三个阶段:预处理阶段,主处理阶段,以及精化阶段。
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