ASML的EUV光刻机型号汇总

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上期文章中，我们列举了ASML的G线，i线光刻机型号，见文章：
本期，我们要罗列下ASML的EUV光刻机的型号及主要技术参数。

ASML公司的EUV介绍极紫外光刻 (EUV) 技术使用波长为13.5纳米的光。高能激光聚焦在熔融锡的微小液滴上， 产生等 离子体并发射出EUV光。锡滴的温度可达到 220,000 摄氏度——是太阳平均表面温度的 40 倍。然后，光线通过蔡司镜反射到晶圆表面，从而在晶圆上呈现出芯片的设计的图案。 截至 2022 年，ASML 已出货约 140 台 EUV 系统，而且它是唯一一家制造EUV的公司。 ASML 最畅销的 EUV 产品是 TWINSCAN NXE:3600D，其售价高达 2 亿美元。这台光刻机约180吨，卡车大小的体积，需要用三架波音 747运输。 ASML的EUV光刻机主要是TWINSCAN NXE，TWINSCAN EXE系列，见下表：

下期我们会总结ASML公司DUV光刻机型号。      欢迎加入我的半导体制造知识星球社区，目前社区有1900人左右。在这里会针对学员问题答疑解惑，上千个半导体行业资料共享，内容比文章丰富很多很多，适合快速提升半导体制造能力，介绍如下：      《欢迎加入作者的芯片知识社区！》