一 、准备工作
PLL版图开始前要确认的事情
1,工艺制程: ?P( POLY)?M(METAL)。
2,模块内可以用到的METAL层数(通常会预留TOP和TOP_1层用于顶层的P/G)。
3,模块内的金属连线走向。
4,GATE区域(PO和OD重合区域)是否可以跨线。
5,差分对匹配的排列方式,电流镜的匹配方式。
6,模块的预期SIZE(X,Y 是否有限制)。
7,PLL在CHIP内的摆放位置和方向。
8,模块的出PIN方向,特别是模块的P/G(电源和地)和大电流信号的接入方向。
9,VCO 单元,IN/OUT接线的宽度和间距。
10,需要添加SHIELDING 的信号线,间距和线宽。
11,版图里是否还有特别需要注意的地方。
二 、模拟版图通识
MOS:
1,PMOS和NMOS都要用一圈完整的SUB RING,将MOS围起来。
2,相似功能的MOS放在一个SUB RING 内,例如一组差分对,一组电流镜。
3,SUB RING通常一个CONT宽。(40NM以下的SUB RING 两个CONT宽)。
4,SUB RING尽量靠近MOS。 MOS与SUB RING的间距保持统一,不要任意。
5,MOS优先考虑共用(22NM的要注意DENSITY 问题)。
6,MOS不能共用的,DIFF 分开,保持DIFF 最小间距。不能共用,需要匹配的MOS(电流镜和差分对)要保持 S 和 D 同向(STEPPING)。
7,一个SUB RING 内,MOS与MOS之间的间距,如果不能最小,要保持等距,不要任意。
8,XL器件后,要分析一下,哪些层次可以共用,哪些层次或RING可以去掉。不要什么也不管,直接连线。
电阻和电容:
1,默认电阻两边要加DUMMY电阻。
2,高精度电容四边加DUMMY电容。
3,不论电阻体可不可以跨线,跑线都优先从电阻体和电阻体之间穿线。
4,同一区域内的器件要保持等距,特别强调DUMMY器件和有用器件保持等距。
器件摆放:
1,器件摆放一定要与电流和信号走向一致。
2,数字部分和模拟部分分区摆放。
3,高压部分和低压部分分区摆放,不同电压域不能混放。
4,相同、相似部分,遵循的LAYOUT原则要一致。
在满足以上条件的前提下,面积做到最优。 版图的层级关系和线路的层级关系要保持一致
连线:
1,VIA和CONT至少两颗。
2,普通连线间距,通常用MIN RULE。间距不可随意放大。
3,模拟部分,连线不用最小线宽。模拟部分,通常采用METAL包VIA四边等大的一个方形VIA头宽。
4,连线宽要符合线路标注的电流大小。
5,连线分区,同类的线,放一起跑线。模拟类和数字类接线分区。 连线时,既可以跳线,也可以跳 POWER/GROUND时,要优先选择跳线。 连线时,图形一定要切齐。
6,相同、相似部分,连线要相同,要一致。
POWER/GROUND:
一定要添加POWER/GROUND,不要用SUB RING 当POWER/GROUND。
1,BLOCK内POWER/GROUND通路要顺畅、简洁、清晰,不要迂回。
2,多排MOS的POWER/GROUND,不可以仅仅通过SUB RING连接。
3,POWER/GROUND要有主干和分支。 POWER/GROUND主干宽度要大于分支。 4,POWER/GROUND分支宽度要根据所接器件多少进行调整。器件少,可以减少宽度,器件越多,就要相应加宽。
5,POWER/GROUND从接入点到末端,可以渐细,切不可忽宽忽细,形成瓶颈。 POWER/GROUND分支和主干接线,注意有效宽带,不要形成“瓶颈”。
标签:
为版图服务。
DEVICE上要打DEVICE编号,连线上要打线名。原则上,线路中出现的线名都要打标记。 信号线上的标签,进行旋转调整,一定要顺着电流方向添加,方便辨认。
目检:
LAYOUT图形要美观整齐,空间利用合理。 !!!!版图完成,必须进行目检。LVS、DRC、ERC等验证并不能排除所有的风险。