一. 原理介绍
在机器视觉中,光学成像的明场(Bright Field)和暗场(Dark Field)是两种常见的成像技术,分别用于不同的检测和分析场景。它们通过不同的光照方式来突出对象的特征,从而帮助识别、检测和测量对象的各类细节。
明场成像原理:是一种传统的光学成像技术。在这种技术中,光源直接照射到物体上,反射光或透射光直接进入相机或传感器。成像的亮度主要由物体的反射率、透光率以及物体的形状和结构决定。明场照明的定义是光源位于相机视野(FoV)的反射锥内(高角度照明)。
暗场成像原理:暗场成像是通过使光线以倾斜的角度照射到物体上,只有散射光或反射光进入相机或传感器,直接反射光不会进入镜头,因此在图像中背景通常是黑暗的,只有物体的边缘或细微结构被高亮显示。
如下图示蓝色圆锥确定了相机的视野(FoV)。位于目标前面的光被反射回相机,而FoV则由内侧和外侧的反射角看到。在二维模型中,这也称为“W’照明,因为内角和外角创造了一个“W”形的边界。
入射角在“W”边界之外的反射光称为暗场照明。可以看到光与目标的角度要小得多(低角度照明),由于大部分光被反射到远离相机镜头的地方,形成了高对比度。