双步光刻法形成倒三角有利于liftoff,例如基于光刻胶AZ5214。
https://www.researchgate.net/figure/Basic-steps-of-the-lift-off-process_fig1_230947456
烘焙退火的温度和时间,以及光刻胶的厚度影响liftoff的时间。基于高转速薄的光刻胶,以及超声辅助,可以减少liftoff的时间。
Liftoff可能是不彻底的,小棉签机械擦拭,以及显微镜检查是必要的。
双步光刻法形成倒三角有利于liftoff,例如基于光刻胶AZ5214。
https://www.researchgate.net/figure/Basic-steps-of-the-lift-off-process_fig1_230947456
烘焙退火的温度和时间,以及光刻胶的厚度影响liftoff的时间。基于高转速薄的光刻胶,以及超声辅助,可以减少liftoff的时间。
Liftoff可能是不彻底的,小棉签机械擦拭,以及显微镜检查是必要的。