《炬丰科技-半导体工艺》 光学镜片和玻璃部件的超声波清洗

本文介绍了超声波清洗在光学镜片和玻璃部件中的重要性,包括镜头、液晶玻璃、磁盘和磁头的清洗。强调了清洗系统、洗涤剂选择和干燥系统构成的重要性,以及如何针对不同污染物定制清洗方案。随着环保要求,氟利昂替代品的使用成为挑战,而磁性磁头的清洗则需要考虑更复杂的因素,如防止划痕和适应不同粘合剂的清洗工艺。
摘要由CSDN通过智能技术生成

书籍:《华林科纳-半导体工艺》
文章:光学镜片和玻璃部件的超声波清洗
编号:JFKJ-21-1107
作者:华林科纳

引言
作为光学部件的镜头,由于其光学特性,有各种各样的硝种,被认为是不可能用水清洗的,同时,由于其量产化的计划,无论如何都必须自动化,与大型照相机制造商共同研究,试制了光学镜头的超声波自动清洗装置,才确立了量产化。之后,镜头的自动清洗装置大量销售,并且通过清洗系统的改良、机构的简化、洗涤剂的开发、振动器的改良等,一直延续到现在。

实验
就像光学透镜一样, 液晶玻璃, 磁盘, 磁磁头 光掩膜等表面抛光的零部件的清洗, 已经有人说,如果不使用超声波清洗,就无法得到清洁面。当然, 超声波清洗不是全部,与其他清洗方法的组合,洗涤剂的选择,清洗系统的构成,干燥系统的构成等都是重要的因素,不要忘记。在原理上被认为是理所当然的。使用单一共振频率的振子强制制造驻波, 相反,我们需要做的是, 如何使安装有振动器的面有效地进行活塞运动。当然, 洗涤物, 如果进行机械性的摇摆运动,就会横穿气蚀发生区, 反而可以期待同样的洗净效果。
因此,与以往的使用空化的洗涤的想法不同。像这样,超声波洗涤有各种系统的组合方法,如果频率、振动器输入等不设定适当的值,洗涤物就无法洗涤,反而会造成损伤,因此必须十分注意这些系统的选定。因此,本公司一旦有洗涤委托,就会请教其前工序,即附着了什么样的污物,经过什么样的工序附着了污物,根据这些来决定洗涤系统。然

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