用显微镜自制光刻机

文章介绍了将旧蔡司显微镜改造为光刻设备的方法,包括MarkI至MarkIII的改进模型,分别利用DLP、LCoS技术和红色激光进行对准和曝光,达到亚微米级别的分辨率。这些低成本解决方案展示了显微镜在微制造中的潜力,如微芯片原型制作和软光刻。

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首先感谢文章:蔡司显微镜:悄悄告诉你,显微镜也可以作光刻机!

该文章专业,通俗易懂的,并附上大量文献

1.Mark IV Maskless Submicron Photolithography Stepper

在这里插入图片描述
用于 2“ (50mm) 晶圆的自动 DLP 亚微米步进机,具有 LabView 控制、计算机校准和晶圆真空吸盘。基于具有定制光学组件和原位紫外-可见光谱的旧尼康显微镜,用于照明过程控制。衍射极限分辨率为<250nm,光源为365nm。
四阶曝光
Stepped array
详细

Mark I

在这里插入图片描述
图像缩小
图像缩小

Mark II

手动DLP投影对准仪 >10um 特性。由于其在400nm以下无法传输太多光线,因此移除了彩色轮。通过仿真(弛豫振荡器)电路来产生投影机期望从彩色轮背电动势驱动/传感器和光电二极管处接收到的信号。

拆除投影仪色轮
色轮模拟,我猜是让投影仪不产生异常而加入的
用来模拟色轮的振荡器
Reduction lens assembly

二代完成

Mark III

带红色激光对准照明的手动 LCoS 亚微米步进机。在显微镜物镜上给定数值孔径为0.98,曝光波长为365纳米,简单计算得到的分辨率为0.227微米,然而由于此投影系统固有的衍射限制,实际分辨率可能在0.5微米左右。焦深在数值孔径为0.98时计算出约为1.8微米,但很可能更差。

LCoS pico projector
投影仪光学模组
UV LED 和 红色激光加入

控制器和电源
完整系统

带红色激光对准照明的手动 LCoS 亚微米步进机

在这里插入图片描述

2.A maskless photolithographic prototyping system using a low-cost consumer projector and a microscope

3.Optical devices and methods for distributed lab-on-a-chip analyses

4.Microscope Projection Photolithography Based on Liquid Crystal Microdisplay

5.Microscope Projection Photolithography for RapidPrototyping of Masters with Micron-Scale Features for Use in Soft Lithography

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