unity3d软阴影和硬阴影的原理_使用随机采样创建软阴影

本文是OpenGL 4.0 Shading Language Cookbook的学习笔记。

Shadowmap的基础实现结合PCF可以产生软阴影。但是，如果想要更大宽度的软阴影，这种方法需要增加大量采样。对于完全位于阴影中的片段，以及完全位于阴影之外的片段，这显然造成了大量浪费。

在本文，我们介绍的技术基于GPU Gems 2, edited by Matt Pharr and Randima Fernando, Addison-Wesley Professional, 2005 第17章。它解决了软阴影对宽度的不同要求，同时避免了对位于阴影中和阴影外的片段的不必要的纹理采样。

它的基本思想如下：

• 使用一个固定的偏移集合进行采样，我们这里使用的是一个随机的，圆形范围内的偏移集合，而不是在片段的周围(Shadowmap空间)进行采样。
• 首先对接近圆形边缘的位置进行采样，判断片段是否完全位于阴影中或阴影外，从而确定是否还有继续采样的必要。

下图是一个采样位置的可视化表示。图的中心为片段在Shadowmap中的位置，每个x代表一个采样位置。采样位置随机分布在以片段位置为中心的圆中。

我们通过预先计算的采样模板来设置采样位置。我们计算出随机的采样位置，并将它存放在纹理中。然后在片段着色器，我们使用偏移纹理中的偏移值对片段在Shadowmap中的位置进行偏移采样。然后对采样结果求平均值。

下面左图使用PCF渲染，右图使用随机采样技术渲染。

我们将偏移数据存储在三维纹理中(大小为nxnxd)，每个(s,t)位置处包含了一个二维随机偏移集合。每个RGBA颜色值包含了两个二维纹理偏移。R和G分量是第一个偏移值，B和A分量是第二个偏移值。比如，位置(1,1,3)包含了位置(1,1)处的第6个和第7