MOS管,全称金属(metal)-氧化物(oxide)-半导体(semiconductor)场效应晶体管,或者称为金属-绝缘体(insulator)-半导体场效应晶体管(MOSFET),是一种利用电场效应来控制其电流大小的半导体三端器件。以下是对MOS管的详细介绍:
一、定义与特性
- 定义:MOS管通过改变栅极(G)与源极(S)之间的电压来控制漏极(D)与源极之间的电流。它具有高输入阻抗、低噪声、热稳定性好、抗辐射能力强等优点。
- 对称性:在多数情况下,MOS管的源极和漏极是对称的,可以互换,而不影响器件的性能。这种对称性使得MOS管在电路设计中更加灵活。
二、主要参数
- 开启电压(阈值电压)VT:使得源极和漏极之间开始形成导电沟道所需的栅极电压。标准的N沟道MOS管VT约为36V,通过工艺改进可以降低到23V。
- 直流输入电阻RGS:栅源极之间加的电压与栅极电流之比,MOS管的RGS可以很容易地超过10¹⁰Ω。
- 漏源击穿电压BVDS:在栅源电压为零的条件下,使漏极电流开始剧增时的漏源电压。
- 低频跨导gm:反映栅源电压对漏极电流的控制能力,是表征MOS管放大能力的重要参数。
- 导通电阻RON:说明漏源电压对漏极电流的影响,是漏极特性某一点切线的斜率的倒数。
三、开关导通条件
某P沟道MOS管为例
箭头指向G极的是N沟道
箭头背向G极的是P沟道
G栅极,S源极,D漏极
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VGS导通电压VG-VS,ID为D到S的电流值,手册上ID为负值即实际MOS管导通时电流流向是S到D
P沟道Ug<Us导通,N沟道相反。截至条件都为Ug=Us。
VGS(th)阈值电压,当VGS为-3时MOS管完全打开,未达到此值可想象未全拧开的水阀。
我们使用时还需注意RDS(on),MOS管导通时DS间的内阻,此值关系着MOS管导通时的发热程度,P沟道MOS管的RDS(on)远小于N沟道,所以我们选用MOS管作开关时更倾向于P沟道MOS管。