以下内容均作为个人学习时遇到问题的学习历程,记在这里也是希望自己能常回顾。另外,文章出现的图片有些是个人手绘不太标准。
问题1:对于增强型NMOS管,如果GS电压大于GS开启电压,且是一个定值,此时如果持续增加DS间的电压,mos管会有怎样的变化?
答:
在增强型NMOS管中,当 VGS 保持在一个固定值且大于开启电压(阈值电压 Vth)时,随着 VDSV的不断增大,器件的工作状态会经历以下几个阶段:
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线性(欧姆)区:
- 当 VDS较小(通常满足 VDS<VGS−Vth)时,NMOS管的沟道从源极到漏极均已形成。
- 此时,漏极电流近似满足线性关系:
- 电流随 VDSV_{DS} 线性上升,器件表现为一个可变电阻。
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饱和区:
- 当 VDS增加到接近 VGS−Vth时,靠近漏极处的沟道开始钳制(即通道在漏极端“收缩”),器件进入饱和区。
- 理想情况下,在饱和区内,漏极电流主要由 VGS控制,而对 VDS的依赖很弱,公式为:
- 实际上,由于沟道长度调制(Channel Length Modulation)的影响,随着 VDS 的进一步增加,饱和区内的漏电流会有轻微的上升,可以修正为:
其中 λ是沟道长度调制系数。
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极限与击穿现象:
- 如果继续增大 VDSV_{DS} 并远超过饱和条件下的电压,器件内部特别是在漏区会产生非常高的电场。
- 当电场超过器件材料的承受能力时,就可能引起雪崩击穿或其他击穿机制,此时器件会突然导通大量电流,并有可能损坏。
- 这种击穿现象通常在设计中应避免出现,通过控制 VDS 在安全范围内工作来保护器件。
总结:
- 在固定 VGS(且 VGS>VthV)的情况下,随着 VDS的增加,NMOS管先从线性区进入饱和区。
- 在线性区内,电流随 VDS近似线性增长;进入饱和区后,电流基本由 VGS−Vth决定,仅因沟道长度调制而有微小上升。
- 如果 VDS 继续增大到超过器件的设计极限,则可能引发击穿现象,导致器件损坏。
问题2:DS电压是一个定值,GS电压持续增加,mos管的变化
答:
1. VGS<Vth —— 关断状态
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当栅源电压低于阈值电压 Vth 时,沟道未形成,器件处于关断状态,几乎没有漏极电流流过。
2. VGS刚超过 Vth —— 初始导通 & 饱和区
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开始导通: 一旦 VGS稍微大于 Vth(即 VGS=Vth+ΔV,其中 ΔV很小),沟道开始在源极处形成。但由于此时 VGS−Vth非常小,而 VDS是一个固定且相对较高的值,通常满足: VDS>VGS−Vth
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工作区域: 根据MOSFET的工作区划分条件,若 VDS>VGS−Vth,器件处于饱和区(也称为活性区),即使 VDS值固定,漏极电流主要受 VGS−Vth控制。
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漏极电流: 在理想模型中(不考虑沟道长度调制),饱和区电流近似为:
因此在这个阶段,随着 VGS增加,ID会大致按二次函数关系增加。
3. 进一步增大 VGS—— 由饱和区转入三极管(线性)区
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转变条件: 当 VGS持续升高,直到满足: VGS−Vth>VDS此时,整个沟道都被充分增强,且不再出现漏极端的钳位现象。也就是说,当 VGS>Vth+VDS器件就会进入三极管区(或称为线性区)。
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三极管区特性: 在三极管区,MOSFET的漏极电流可以写成:
此时,对于固定的 VDS,ID随着 VGS的增加近似呈线性增长,并且器件表现为一个可变电阻,其导通电阻 Ron 大致为:
因此,随着 VGS增加,沟道电导提高,Ron减小。
4. 总结
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从关断到导通: 当 VGS从低于 Vth增加到刚刚超过 Vth 时,器件开始导通,但由于 VGS−Vth很小且 VDS固定较高,工作在饱和区,此时漏极电流随 VGS 的增加呈二次关系上升。
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由饱和区转入线性区: 当 VGS继续增大并满足 VGS>Vth+VDS 后,整个沟道被充分增强,器件进入线性区(欧姆区),此时器件表现为一个低阻值的开关,漏极电流随 VGS变化的增幅变得接近线性。
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实际效果: 固定 VDS 的情况下,增加 VGS将使得MOS管的导通性能不断增强:漏极电流增大、导通电阻减小,最终使器件表现得更加“饱满”(即低阻通路)。
需要注意的是,实际器件中还可能会受到次级效应(如沟道长度调制、高场效应等)的影响,但总体趋势如上所述。
结论:
在固定 VDS的条件下,随着 VGS的持续增加,增强型NMOS管会从完全关断进入饱和区(初期导通时电流按 (V_{GS}-V_{th})^2 增加),并在 VGS足够高时转入线性区(导通电阻降低、漏极电流线性增加)。当 VGS足够大、超过了MOS管所允许的最大额定值时,会引起栅氧化层的击穿,从而导致器件损坏。因此,在设计和使用过程中必须严格控制栅极电压,确保其不超过规格书中规定的最大值。