Mask和Rect Mask 2D

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前言：

正文：

深度剖析: 

Mask就一定比Rect Mask 2D性能要好吗？

总结：

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前言：

本人接触性能优化这一块的引子就是Mask，在之前的学习中了解到Mask会产生两个DrawCall？？当时我也是第一次听到DrawCall这个词，至于什么是DrawCall，大家可以参阅下面这篇文章：DrawCall，Batches,SetPassCall_林万厦的博客-CSDN博客

本篇文章的内容是经过自己反复阅读源码和测试推敲出来的，如有解释不当的地方，望不吝赐教！

正文：

在过往的交流中身边总有人认为是Mask会产生两个DrawCall，Rect Mask 2D只占用一个，觉得用Rect Mask 2D一定能起到优化的作用，于是我看了源码，并亲自测试了一下。

下面是Mask为什么产生DrawCall的源码部分：

 可以看到在Mask实现最初添加了一个特殊材质（Material）来作为模板材质（StencilMaterial）而这就不符合我们的合批规则，Mask第一个DrawCall设置模板缓存的时候产生的，第二个是所有Mask下的物体逻辑执行完之后要还原模板缓存。（这里说的两个包括它所依附的Image对象的DrawCall）实际上Mask本身只会产生一次DrawCall，而Rect Mask 2D本身并不产生DrawCall。

 下图是一个Image添加了一个Mask组件，一共有3个Batch。相机，Image，Mask各占一个。

把Mask替换成Mask 2D后可以看到，减少了一个Batch

深度剖析: 

接下来就是重头戏了，我们先来剖析一下Rect Mask2D的源码：

 注意我加了注释的地方，在Mask2D组件获取到要裁剪的区域之后，遍历所要裁剪的子对象，调用了底层C++的SetClipRect方法，这里我猜测这个方法的作用是 告诉子对象哪些顶点不需要参与绘制，最终达到被裁减掉的部分像素和顶点不参与渲染的效果。我们可以根据猜想去测试一下：

首先创建一个空物体挂上Mask2D组件，在它的子节点下创建一个Image，注意顶点数（Verts）和面数（Tris）

 然后我们把Image移除Mask2D的范围，让它整个被裁剪掉：

 可以看到这个时候顶点数和面数的变化，也就证明了我们的猜想是正确的！

也就是说Mask2D与Mask最大的不同点就在于，Mask2D被裁剪掉的部分不会参与绘制，而使用Mask被裁剪掉的部分仍然参与绘制！这也就是为什么Mask会打断合批的原因。

Mask就一定比Rect Mask 2D性能要好吗？

        首先，多个Mask之间是可以进行合批的，而Mask 2D就不行，这是因为他们的实现原理不同，上文中有讲到Mask实现最初添加了一个特殊材质（baseMaterial）来作为模板材质，所以多个Mask用的也都是这个相同的材质，可以达到合批规则。单是这一点，我们在开发过程当中一个界面需要多个遮罩时，Mask的性能就要高于Mask 2D,再然后，不同Mask的子对象之间也可以进行合批的，而Mask2D就不行。上述是我用FrameDebug测试得出的结果，我这里不会制作gif，就不插图了，大家可以自行测试一下哈。

总结：

        使用Mask或是Mask2D要区分应用场景，首先Mask2D只能裁剪矩形，但是却能在单个界面只需要一个遮罩的时候起到优化作用，当单个界面需要多个遮罩时使用Mask更合理。